[发明专利]一种稳定式电子污染减排装置有效
申请号: | 201810098043.6 | 申请日: | 2018-01-31 |
公开(公告)号: | CN108503069B | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
发明(设计)人: | 冯斌斌 | 申请(专利权)人: | 江山市皇朝装饰材料有限公司 |
主分类号: | C02F9/04 | 分类号: | C02F9/04;C02F101/18 |
代理公司: | 北京华识知识产权代理有限公司 11530 | 代理人: | 江婷 |
地址: | 324100 浙江省衢州市江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理箱 反应空间 下端 测量反应 催化剂箱 电子污染 减排装置 左电控阀 上端 进水管 稳定式 原水箱 水位感应器 排水管 带动旋转 对称设置 螺旋搅拌 氢氧化钠 溶液混合 旋转电机 左右两侧 传动轴 控制阀 密封孔 密封箱 排气管 排水孔 旋转轴 穿出 竖直 左端 转动 水位 分解 | ||
本发明公开了一种稳定式电子污染减排装置,包括原水箱和处理箱,所述原水箱右端面的下端设置有一进水管,所述进水管的右端固定连接有一密封箱,所述处理箱内设置有一反应空间,所述处理箱左端面的上端设置有一排气管,所述处理箱上端面的左右两侧对称设置有左催化剂箱和右催化剂箱,所述传动轴的下端穿出密封孔并固定连接有一竖直方向的旋转轴,所述处理箱右端面的下端设置有排水管,所述排水孔内装有一控制阀。本发明工作中,通过水位感应器测量反应空间内的水位,左电控阀控制氢氧化钠进入反应空间,pH测量器测量反应箱内液体的pH值并控制左电控阀的开关,同时,旋转电机工作,带动旋转轴和螺旋搅拌板转动,使反应空间内的各种溶液混合均匀,促进分解。
技术领域
本发明涉及电子污染减排领域,具体为一种稳定式电子污染减排装置。
背景技术
目前,随着科技的进步,电子产业蓬勃发展,作为一个新兴产业,电子制造的过程中,监管不严,污染物难处理等问题都没有得到很好的解决,而氰化物作为电子污染中的一种,对人体的危害很大,而氰化物在碱性环境下利用强氧化剂氧化得到无污染的二氧化碳和氮气是目前比较成熟的技术,但是市场的设备太过精密,成本太高而无法普及。
发明内容
本发明的目的在于提供一种稳定式电子污染减排装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:本发明公开了一种稳定式电子污染减排装置,包括原水箱和处理箱,所述原水箱内部设置有一储水空间,所述原水箱上端连接有一箱盖,所述原水箱右端面的下端设置有一进水管,所述进水管的右端固定连接有一密封箱,所述密封箱的内部设置有一密封空间,所述进水管内设置有一进水孔,所述进水孔连通密封空间和储水空间,所述密封箱上端面的中心位置处设置有一中通孔,所述中通孔连通密封空间和外界空间,所述密封空间内装有一密封板,所述密封板上端面的中心位置处固定连接有一连杆机构,所述连杆机构由旋转杆、连接杆和竖直升降杆组成,所述旋转杆下端的左侧与连接杆上端右侧旋转连接,所述连接杆的下端与竖直升降杆的上端转动连接,所述旋转杆上端与增压电机的电机芯轴固定连接,所述增压电机下端固定连接有一三角板,所述三角板固定连接在处理箱左端面的中间位置处,所述处理箱内设置有一反应空间,密封箱右端面的下端设置有一连接管,所述连接管的右端固定连接在处理箱左端面的下端面上,所述连接管内设置有一连接孔,所述连接孔连通密封空间和反应空间,所述连接孔和进水孔内都装有一单向阀,所述处理箱左端面的上端设置有一排气管,所述排气管内部设置有一排气孔,所述排气孔连通反应空间和外界空间,所述处理箱上端面的左右两侧对称设置有左催化剂箱和右催化剂箱,所述左催化剂箱和右催化剂箱内分别设置有一左储存空间和右储存空间,所述左储存空间和右储存空间的下端壁上分别设置有左贯通孔和右贯通孔,所述左贯通孔连通反应空间和左储存空间,所述右贯通孔连通反应空间和右储存空间,所述左贯通孔和右贯通孔内分别设置有左电控阀和右电控阀,所述反应空间上端壁的中心位置处固定连接有一防水箱,所述防水箱内部设置有一防水空间,所述防水空间的上端壁上固定连接有一旋转电机,所述旋转电机的下端固定连接有一传动轴,所述防水空间的下端壁上设置有一密封孔,所述密封孔连通反应空间和防水空间,所述传动轴的下端穿出密封孔并固定连接有一竖直方向的旋转轴,所述密封孔通过其内部的密封垫圈与传动轴的轴体密封连接,所述旋转轴的轴体上固定连接有一螺旋搅拌板,所述反应空间下端面的中心位置处固定连接有支撑块,所述支撑块上端面的中心位置处设置有一连接槽,所述连接槽通过其内部的旋转轴承与旋转轴的下端旋转连接,所述反应空间下端壁的左右两侧分别设置有pH测量器和氰根测量器,所述反应空间的左端壁上设置有一水位感应器,所述处理箱右端面的下端设置有排水管,所述排水管内设置有一排水孔,所述排水孔连通反应空间,所述排水孔内装有一控制阀,所述原水箱和处理箱底部均固定设置有支撑装置。
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