[发明专利]偏光片的剥离设备及其剥离方法有效
| 申请号： | 201810093527.1 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN108284661B | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 易国霞 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | B32B38/10 | 分类号： | B32B38/10 |
| 代理公司： | 44304 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏光片 剥离 刻蚀区域 离子束刻蚀 剥离设备 预定轨迹 显示面板 离子束 刻蚀 膜层 去除 断裂 | ||
1.一种偏光片的剥离方法，其特征在于，包括步骤：
将偏光片划分为多个刻蚀区域；
沿预定轨迹依次对所述多个刻蚀区域进行离子束刻蚀；
去除显示面板上未被离子束刻蚀的偏光片，
其中，所述步骤沿预定轨迹依次对所述多个刻蚀区域进行离子束刻蚀具体包括：
对位于所述预定轨迹上的第一个刻蚀区域进行离子束刻蚀；
记录刻蚀至露出显示面板时的刻蚀参数，所述刻蚀参数包括离子束的光斑的大小、强度及刻蚀时间；
利用所述刻蚀参数依次对所述多个刻蚀区域中其他的刻蚀区域进行离子束刻蚀。
2.根据权利要求1所述的剥离方法，其特征在于，所述刻蚀区域的形状为正方形，所述刻蚀区域的边长等于所述离子束的光斑的直径。
3.根据权利要求2所述的剥离方法，其特征在于，所述离子束的光斑的大小为0.1～1微米。
4.根据权利要求1所述的剥离方法，其特征在于，所述离子束的入射方向与所述偏光片的表面垂直。
5.根据权利要求1-4任一所述的剥离方法，其特征在于，所述预定轨迹为沿第一方向或沿第二方向延伸的S形曲线，所述第一方向与所述第二方向垂直。
6.根据权利要求1-4任一所述的剥离方法，其特征在于，所述预定轨迹为螺旋形。
7.根据权利要求1所述的剥离方法，其特征在于，在步骤去除显示面板上未被离子束刻蚀的偏光片中通过有机溶液去除显示面板上未被离子刻蚀的偏光片。
8.一种偏光片的剥离设备，其特征在于，包括离子枪、载台及设于所述载台上的柔性面板，所述柔性面板包括显示面板及设于所述显示面板上的偏光片，所述离子枪的发射口与所述偏光片相对设置，所述离子枪和/或所述载台移动对所述偏光片进行离子束刻蚀。
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