[发明专利]用于压印的下层膜形成用组合物以及图案形成方法

说明书

本发明提供用于压印的下层膜形成用组合物以及使用了该下层膜形成用组合物的图案形成方法，所述下层膜形成用组合物适合用于利用蚀刻法的图案的形成，能够分别将下层膜与纳米压印用固化性树脂层的蚀刻选择比、下层膜与金属膜的蚀刻选择比控制在最适当的范围，而且向基板的涂布性良好。一种用于压印的下层膜形成用组合物，含有(A)二氧化硅粒子、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂、(D)溶剂，其特征在于，所述(A)二氧化硅粒子以及所述(B)光聚合性化合物的总量100质量份中的所述(A)二氧化硅粒子的含量超过20质量份，且不足90质量份。

技术领域

本发明涉及用于压印的下层膜形成用组合物以及图案形成方法。

背景技术

提出有如下的纳米压印法:将形成有规定的图案的模具抵于表面形成有树脂层(图案形成层)的被转印基板进行挤压，将模具的图案转印至树脂层。

纳米压印法是将预先在表面形成有纳米尺寸的凹凸图案的模具抵于在半导体晶圆等被转印基板的表面涂布形成的树脂层进行挤压，以力学方式使所述树脂层变形而转印所述凹凸图案，将该经图案转移的树脂层作为牺牲膜而加工被转印基板的技术。

在这样的纳米压印法中，公知有使用热塑性树脂通过热量转印凹凸图案的热压印法、或使用光固化性树脂通过紫外线转印凹凸图案的光压印法等。

采用纳米压印的图案形成方法具有将具热塑性或光固化性的纳米压印用固化树脂组合物涂布在基板上的工序。

为了提高纳米压印用固化树脂组合物与基板的密合性，有在基板上形成下层膜的方法。在专利文献1～2中记载有用于形成下层膜的压印用下层膜组合物。

在专利文献1中，记载有含有固化性主剂以及尿素类交联剂的压印用下层膜组合物。

在专利文献2中，记载有压印用下层膜形成组合物，所述压印用下层膜形成组合物包含具有烯属不饱和基团与选自氧杂环丙基以及氧杂环丁基的环状醚基、且重均分子量为1000以上的树脂。

用于压印的下层膜形成用组合物被用于在如下制品的制作中所使用的利用光照射而形成图案等应用纳米压印法的各种各样的用途，所述制品包括半导体集成电路、平面屏幕、微机电系统(MEMS)、传感器元件、光盘、高密度存储盘等磁记录介质、衍射光栅或浮雕全息图等光学部件、纳米器件、光学器件、用于平板显示制作的光学薄膜或线栅偏振器等偏振元件、液晶显示器的薄膜晶体管、有机晶体管、滤色片、外覆涂层、柱材、液晶取向用的肋材、微透镜阵列、免疫分析芯片、DNA分离芯片、微反应器、纳米生物器件、光波导、光学滤光片、光子液晶等。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013－202982号公报

专利文献2：日本特开2014－192178号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

在基板上通过纳米压印形成牺牲膜，并通过蚀刻法形成图案时，对于下层膜要求将与纳米压印用固化性树脂层的蚀刻选择比以及下层膜与金属膜的蚀刻选择比分别控制在最适合的范围。进而，对于用于压印的下层膜形成用组合物要求涂布在基板上时的涂布性良好。

本发明是鉴于上述问题而提出的，以提出用于压印的下层膜形成用组合物以及使用了该下层膜形成用组合物的图案形成方法为课题，所述下层膜形成用组合物适合用于利用蚀刻法的图案的形成，能够分别将下层膜与纳米压印用固化性树脂层的蚀刻选择比、下层膜与金属膜的蚀刻选择比控制在最适合的范围，而且向基板的涂布性良好。

用于解决上述技术问题的方案