[发明专利]便于快速清洗的化工反应装置

权利要求书

1.便于快速清洗的化工反应装置，包括反应腔(1)，其特征在于：所述反应腔(1)设置于反应槽罐(3)内，且反应腔(1)的内部纵向设置有两根延伸至旋转轴(11)处的升降滑杆(16)，所述升降滑杆(16)上传动连接有加压活塞(17)和冲刷球柱(18)，所述反应槽罐(3)的上方安装有一可往复式滑移的封板(15)，所述反应腔(1)一端接通有气液分离接口(13)，所述气液分离接口(13)通过连接轴(12)外接，所述反应槽罐(3)的两侧分布有与所述反应腔(1)内部相连通的开关水阀(2)，所述冲刷球柱(18)的外侧与旋转轴(11)的上方嵌入安装有控温感应棒(20)，所述控温感应棒(20)的四周沿反应腔(1)的内侧环绕分布有滤网(19)。

2.根据权利要求1所述的便于快速清洗的化工反应装置，其特征在于：所述反应槽罐(3)上附设有一圆形的观测镜(14)，所述观测镜(14)为凸透镜，所述反应槽罐(3)的下方延伸出伞型结构的定位收音罩(4)。

3.根据权利要求1所述的便于快速清洗的化工反应装置，其特征在于：所述旋转轴(11)的末端处为凹凸环形面，其凸出面内嵌入空腔(8)内，且所述旋转轴(11)的凹端面外侧安装有铰轮(21)，所述铰轮(21)自所述旋转轴(11)一侧的凹端面绕至另一侧的凹端面处。

4.根据权利要求3所述的便于快速清洗的化工反应装置，其特征在于：所述空腔(8)的两侧设置有沿沉淀槽(6)上端往复式滑移的位移块(9)，所述沉淀槽(6)的纵轴心位置处的端面向内凹入形成空腔(8)。

5.根据权利要求3至4任一所述的便于快速清洗的化工反应装置，其特征在于：所述沉淀槽(6)的下方连通有排污槽(7)，所述排污槽(7)呈倒梯形漏斗式结构，所述位移块(9)的两侧连接有水平置于沉淀槽(6)上方的旋转刷(5)，且旋转刷(5)的上方平行设置有与空腔(8)相连通并延伸至外界的回收管道(10)。

6.根据权利要求1所述的便于快速清洗的化工反应装置，其特征在于：所述封板(15)的滑动行程为反应腔(1)开口长度的两倍，且其工作方向顺沿气液分离接口(13)的延伸分布方向。

7.根据权利要求4所述的便于快速清洗的化工反应装置，其特征在于：所述加压活塞(17)和冲刷球柱(18)的纵轴心处于同一垂直线上，所述冲刷球柱(18)传动连接有加压活塞(17)，并自所述加压活塞(17)内向下延伸贯穿滤网(19)至旋转轴(11)处。