[发明专利]柔性显示基板及其制备方法在审
| 申请号： | 201810053538.7 | 申请日： | 2018-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN108320668A | 公开（公告）日： | 2018-07-24 |
| 发明（设计）人： | 来春荣;陈航;陈涛;宗记文;李俊峰 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/30 | 分类号： | G09F9/30 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 王乐 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 刻蚀终点 缓冲层 柔性显示 指示层 衬底 基板 干法刻蚀 刻蚀过程 制备 抓取 刻蚀腔室 时指示 裸露 污染 应用 | ||
1.一种柔性显示基板，其特征在于，包括柔性衬底、缓冲层、以及位于所述柔性衬底与所述缓冲层之间的刻蚀终点指示层；所述刻蚀终点指示层用以当干法刻蚀所述缓冲层时指示刻蚀终点。
2.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述刻蚀终点指示层为a-Si层、氮化硅层或者氮氧化硅层。
3.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述刻蚀终点指示层为金属层或者金属氧化物层。
4.根据权利要求3所述的柔性显示基板，其特征在于，所述金属层的材质为钼或者钛。
5.根据权利要求3所述的柔性显示基板，其特征在于，所述金属氧化物层为ITO层。
6.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述刻蚀终点指示层的厚度为10nm～20nm。
7.根据权利要求6所述的柔性显示基板，其特征在于，所述缓冲层为氧化硅层。
8.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述柔性衬底包括：
第一有机柔性基底；
分隔层，所述分隔层包括依次层叠的氧化硅层、氮化硅层以及a-Si层；
以及第二有机柔性基底；
其中，所述第一有机柔性基底与所述第二有机柔性基底分别位于所述分隔层的两侧。
9.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述第一有机柔性基底与所述第二有机柔性基底均为PI层。
10.一种柔性显示基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供柔性衬底；
在所述柔性衬底上形成刻蚀终点指示层；
以及在所述刻蚀终点指示层上形成缓冲层；
其中，所述刻蚀终点指示层用以当刻蚀所述缓冲层时指示刻蚀终点。
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