[发明专利]氯硅烷液体中和处理装置及处理方法

权利要求书

1.一种氯硅烷液体中和处理装置，包括中和所述氯硅烷液体的碱性中和液及储存所述碱性中和液的储存槽，其特征在于，所述处理装置还包括：

供应所述氯硅烷液体的供应管，所述供应管的下端成形有氯硅烷液体流出口，所述液体流出口延伸至所述碱性中和液的储存槽内，所述液体流出口位于所述碱性中和液的液面上方；

用于喷射惰性气体的喷射管，所述喷射管包括喷射管管体及送气管，所述喷射管管体的一端成形有向下的气体喷出口，所述气体喷出口的高度高于所述氯硅烷液体流出口，所述喷射管设于所述液体流出口的周围以向围设形成所述液体流出口的液体流出口侧壁周围喷射惰性气体，所述送气管与所述喷射管管体连通设置，所述供应管的上端连接有清洗管，所述清洗管与所述供应管之间设有阀门以控制所述清洗管与所述供应管的连通与闭合。

2.根据权利要求1所述的氯硅烷液体中和处理装置，其特征在于，所述供应管的液体流出口与所述碱性中和液的液面之间的距离为500～2000mm。

3.根据权利要求1所述的氯硅烷液体中和处理装置，其特征在于，所述供应管的侧部形成有分支管，所述氯硅烷液体通过所述分支管进入所述供应管。

4.根据权利要求1所述的氯硅烷液体中和处理装置，其特征在于，所述喷射管与所述供应管为双层管结构，所述喷射管的内壁与所述供应管的外壁之间有惰性气体的容纳空间。

5.根据权利要求4所述的氯硅烷液体中和处理装置，其特征在于，所述喷射管的气体喷出口的口径小于所述喷射管的口径，围设形成所述气体喷出口的侧壁为倾斜面。

6.根据权利要求4或5所述的氯硅烷液体中和处理装置，其特征在于，所述喷射管的气体喷出口的四周设置有庇板，所述庇板通过向下扩径形成阻挡所述惰性气体上升的挡板；所述供应管的外部还设有外筒以令所述惰性气体与外部空间隔开。

7.根据权利要求1所述的氯硅烷液体中和处理装置，其特征在于，所述喷射管的气体喷出口的底端距离所述供应管的液体流出口底端的距离为0～30mm。

8.一种利用权利要求1至7中任一权利要求所述的氯硅烷液体中和处理装置的氯硅烷液体处理方法，其特征在于，所述供应管供应的氯硅烷液体沿着所述碱性中和液的液面流入储存槽中与所述碱性中和液反应，同时所述喷射管向所述液体流出口侧壁周围喷射惰性气体；其中：

所述氯硅烷液体的供应量是以所述供应管的液体流出口面的每平方米0.20～0.50L/秒的速度供应，所述供应管的液体流出口的面积为0.5～10cm²。

9.根据权利要求8所述的氯硅烷液体处理方法，其特征在于，所述惰性气体的喷射量是以所述气体喷出口面的每平方米0.35～2.5NL/秒的速度供应，所述喷射管的气体喷出口的面积为2～15cm²，所述惰性气体的喷射量相对于所述氯硅烷液体的供应量为1.2～5.0NL/L。

10.根据权利要求8所述的氯硅烷液体处理方法，其特征在于，所述碱性中和液的pH为8～12，温度为25℃。