[发明专利]曝光旋转治具有效
申请号: | 201810004606.0 | 申请日: | 2018-01-03 |
公开(公告)号: | CN108227403B | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 吴德 | 申请(专利权)人: | 业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 51226 成都希盛知识产权代理有限公司 | 代理人: | 杨冬梅;张行知<国际申请>=<国际公布> |
地址: | 611730 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 内框板 定位板 棘轮机构 容纳组件 治具 旋转轴 支撑架 曝光 固定轴 复数 卡条 曝光过程 可拆卸 可转动 下基板 基板 跨接 穿过 贯穿 | ||
一种曝光旋转治具,包含支撑架和容纳组件。支撑架具有相对的二定位板。容纳组件可转动地设置于该二定位板内侧。容纳组件包含二内框板、棘轮机构、二旋转轴、复数个固定轴以及复数个卡条。二内框板分别位于二定位板的内侧。棘轮机构位于该二内框板其中之一与该二定位板其中之一之间。旋转轴穿过二内框板与二定位板,且二旋转轴其中之一贯穿棘轮机构。每一固定轴的两端分别固定于二内框板的角落。每一卡条可拆卸地跨接于二内框板。棘轮机构可以让容纳组件于支撑架上旋转多个定位角度,因此在曝光过程中可在不取下基板的前提下进行基板的多个部分曝光。曝光旋转治具可以提高产出效率,并减少治具的成本。
技术领域
本揭露是有关于一种曝光旋转治具。
背景技术
当生产的基板欲进行UV曝光时,需要对基板的多个部分进行曝光,然而现有的治具机构仅能用来定位基板,当光源启动时,仅能以单一方向对基板的一部分曝光,若要对整个基板进行曝光,则需将基板从治具机构取出,待变更基板角度后(例如旋转基板)再次装回治具机构,以更换基板曝光的位置,需拆卸并装置基板多次才能完成基板对于曝光制程的需求。此外,每次更换曝光方向时,需要更换不同的治具机构,导致基板反复装卸容易撞伤,降低作业的效率,且提高了人力的负担,不符合生产的效益。
发明内容
有鉴于此,本揭露的一些实施例揭露一种经过改良之卡条可拆卸的曝光旋转治具,可以使待曝光基板在不需要反复拆卸的情况下,透过棘轮机构旋转使得基板经过多次旋转而完成基板曝光,相对于一般卡塞作业效率更高,稳定性更佳。
根据本揭露一实施方式,一种曝光旋转治具包含支撑架和容纳组件。支撑架具有相对的二定位板。容纳组件可转动地设置于二定位板内侧,且容纳组件包含二内框板、棘轮机构、二旋转轴、复数个固定轴以及复数个卡条。二内框板分别位于二定位板的内侧。棘轮机构位于二内框板其中之一与二定位板其中之一之间。旋转轴穿过二内框板与二定位板,且二旋转轴其中之一贯穿棘轮机构。每一固定轴的两端分别固定于二内框板的角落。每一卡条可拆卸地跨接于二内框板。
在一实施方式中,内框板的角落具有复数个定位孔,且固定轴插入定位孔中。
在一实施方式中,内框板的边缘具有复数个凹部,且卡条定位于凹部中。
在一实施方式中,内框板更包含复数个拨块与复数个磁铁。拨块分别枢接于凹部的开口处。磁铁位于内框板中,使得拨块分别由磁铁吸附而定位。
在一实施方式中,每个卡条具有复数个卡槽,用以定位至少一待曝光基板。
在一实施方式中,棘轮机构包含了棘轮元件和伸缩块。棘轮元件由二旋转轴其中之一贯穿,伸缩块位于二定位板其中之一的内侧,且可伸缩地抵接棘轮元件。
在一实施方式中,棘轮元件上具有本体与围绕本体的复数个凸齿。每个凸齿之二侧缘与本体的连接处具有二接点,且二接点与本体之圆心的连线夹45度。
在一实施方式中,支撑架的底部具有镂空区。曝光旋转治具更包含底座。底座位在具有镂空区的支撑架下方。底座具有底板与邻接底板的侧壁,底板与侧壁定义出一空间,且此空间连通支撑架的镂空区。
在一实施方式中,当容纳组件倾斜地位于二定位版内侧时,容纳组件至少部分位于底座的空间中。
在本揭露上述实施方式中,曝光旋转治具在容纳组件的内框板与支撑架的定位板之间设置了一个棘轮机构。此棘轮机构可以让容纳组件于支撑架上旋转多个定位角度,因此在曝光过程中可在不取下基板的前提下进行基板的多个部分曝光。此外,棘轮机构还可避免反转造成待曝光的基板重复曝光,具有防呆的效果。另外,容纳组件的卡条可避免旋转时待曝光基板掉落,并可在曝光时取下卡条以增加曝光区域。曝光旋转治具可以提高产出效率,并减少治具的成本。曝光旋转治具的稳定性佳,可解决基板反复装卸容易撞伤及浪费人力等传统治具的问题。
附图说明
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