[发明专利]用于热处理基板的设备、用于运输柔性基板的设备、以及用于热处理基板的方法

说明书

根据第一方面，本公开内容提供了一种用于热处理基板的设备，所述设备包含至少一个加热元件和至少一个挡板，其中至少一个挡板可在基板与至少一个加热元件之间的第一位置与第二位置之间移动，并且至少一个挡板包含至少一个反射表面。根据另一方面，本公开内容提供了一种用于运输柔性基板的设备，所述设备包含根据第一方面的用于热处理基板的设备、基板运输控制器、和传感器，其中将基板运输经过用于热处理基板的设备。根据另一方面，本公开内容提供了一种用于热处理基板的方法，所述方法包含朝向基板发射辐射、和暂时反射辐射来限制对基板的加热。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种用于热处理基板的设备、以及一种用于热处理基板的方法。本公开内容的实施方式具体地涉及一种用于热处理基板来减少由卷对卷(roll-to-roll；R2R)沉积系统中的残留热的损坏的设备。

背景技术

在包装产业、半导体产业和其它产业中高度需要处理柔性基板，诸如塑料薄膜或箔。处理可由下列组成：用诸如金属、半导体和电介质材料的材料涂布柔性基板、在基板上针对相应应用进行的蚀刻和其它处理动作。执行这个任务的系统大体包括耦接到处理系统的涂布滚筒，例如，圆柱形辊，所述处理系统具有用于运输基板的辊组件，并且其上涂布基板的至少一部分。系统可替代地包括在卷或辊之间的自由跨度，其中处理基板的至少一部分。卷对卷(R2R)涂布系统可以提供高产量。

其中，涂布工艺(诸如CVD工艺、PVD工艺、OPV沉积工艺或OLED沉积工艺)，尤其是溅射工艺，可以用于将薄层沉积到柔性基板上。将卷对卷沉积系统理解为相当长度(诸如一千米或更多)的柔性基板从存储线轴上解缠绕、用薄层堆叠涂布、和再次重新缠绕在卷起线轴上。在制造薄膜电池时以及在显示器产业和光伏(PV)产业中，对卷对卷沉积系统的需求也增长。例如，触控面板元件、柔性显示器、和柔性PV模块导致对在R2R涂布机中沉积适当层的需求增长。

在R2R涂布机中热处理柔性基板时产生挑战。特别地，当在热处理工艺中使用基板加热器时，具有低热容的膜可以在膜运输速度改变时被损坏。当膜运输减慢或停止时，来自加热器的残留热导致材料过热，这可以损坏或破坏膜。由于加热器将保持加热并且继续朝向基板辐射热，这种情况也可以在断电或R2R涂布机的紧急停机期间发生。

鉴于上述，寻求克服本领域中的至少一些问题的用于减少柔性基板的残留热暴露的解决方案以及用于操作这种装置的方法。

发明内容

鉴于上述，提供了一种用于热处理基板的设备、一种用于运输柔性基板的设备、以及一种用于热处理基板的方法。本公开内容的另外方面、益处和特征从权利要求书、具体实施方式和附图显而易见。

根据本公开内容的第一方面，提供了一种用于热处理基板的设备。设备包含至少一个加热元件、和至少一个挡板，其中至少一个挡板可在基板与至少一个加热元件之间的第一位置与第二位置之间移动，并且至少一个挡板包含至少一个反射表面。

根据本公开内容的另一方面，提供了一种用于运输柔性基板的设备。设备包含根据上文第一方面的用于热处理基板的设备、基板运输控制器、和传感器，其中将基板运输经过用于热处理基板的设备。

根据本公开内容的另一方面，提供了一种用于热处理基板的方法。方法包含朝向基板发射辐射、和暂时反射辐射来限制对基板的加热。

实施方式也涉及用于执行所公开的方法的设备，并且包括用于执行每个所描述的方法方面的设备部件。这些方法方面可通过硬件部件、由适当软件编程的计算机、二者的任何组合的方式或以任何其它方式来进行。此外，根据本公开内容的实施方式也涉及用于操作所描述设备的方法。用于操作所述设备的方法包括用于执行设备的每个功能的方法方面。

附图说明

因此，为了能够详细理解本公开内容的上述特征所用方式，可以参考实施方式更具体描述上文所简要概述的本公开内容。附图涉及本公开内容的实施方式，并且在下文中描述：