[发明专利]显示器件、曝光装置、显示器件的制造方法在审
| 申请号: | 201780095348.5 | 申请日: | 2017-09-29 |
| 公开(公告)号: | CN111165073A | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
| 发明(设计)人: | 市川伸治;谷山博己;斋田信介;郡司辽佑;冈部达;仲田芳浩;神村浩治;井上彬 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
| 主分类号: | H05B33/12 | 分类号: | H05B33/12;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/10;H05B33/22 |
| 代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 王娟 |
| 地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示 器件 曝光 装置 制造 方法 | ||
本发明提供一种显示器件,具备多个图像元素,在多个图像元素中分别形成阳极(22),以形成阳极(22)的开口的方式形成覆盖阳极(22)的外周的覆盖层(23A),覆盖层(23A)与相邻的其他阳极(22)的覆盖层(23A)相互分离。
技术领域
本发明涉及一种显示器件等。
背景技术
以往,已知有平板显示器等各种显示器件(例如,参照专利文献1)。通常,显示器件是叠层具有各种功能的层而形成的。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2015-22914号公报(2015年02月02日公开)
发明内容
本发明所要解决的技术问题
近年来,期望增大显示器件的画面尺寸,并且使图像高精细化。因此,显示器件的构成部件的微细化正在进步。
在显示器件的制造工序中,为了进行微细加工而使用光刻法。在光刻法中,使用光掩模来控制光对感光性树脂的照射。
在要制造的产品的画面尺寸大于光掩模的情况下,对尺寸比光掩模大的基板使用光刻法。在这种情况下,需要进行几次配置光掩模并照射光的工序。
但是,在数次进行上述工序时,在光掩模的边缘重叠的部分,有时会在结果物的表面产生凹凸,有可能会产生不良情况。
本发明的一个方式的目的在于,提供一种能够防止通过连接光掩模而产生的不良情况的发生的显示器件的制造方法以及显示器件。
解决问题的手段
本发明的一个方式所涉及的显示器件,具备多个图像元素,在所述多个图像元素中分别形成第一电极,以形成所述第一电极的开口的方式,形成覆盖所述第一电极的外周的覆盖层,所述覆盖层与相邻的其他所述第一电极的覆盖层相互分离。
本发明的一个方式所涉及的曝光装置,对覆盖形成于平坦化膜的表面的多个第一电极的感光性有机材料膜,利用光刻法进行图案形成,所述曝光装置具备:发出对所述感光性有机材料膜进行曝光的光的光源;以及阻断来自所述光源的光的一部分的光掩模,所述光掩模包括:阻断来自所述光源的光的一部分的半透光部;以及使所述光透过的透光部,所述半透光部以如下方式形成:通过透过该半透光部的光,对于所述多个第一电极,分别以形成所述第一电极的开口的方式形成覆盖所述第一电极的外周的覆盖层,所述透光部以如下方式形成:通过透过所述透光部的光,形成使多个所述覆盖层的至少一部分相互分离的分离区域。
本发明的一个方式所涉及的曝光装置,对覆盖形成于平坦化膜的表面的多个第一电极的感光性有机材料膜,利用光刻法进行图案形成,所述曝光装置具备:发出对所述感光性有机材料膜进行曝光的光的光源;以及阻断来自所述光源的光的一部分的光掩模,所述光掩模包括:阻断来自所述光源的光的一部分的半透光部;以及阻断所述光的遮光部,所述半透光部以如下方式形成:通过透过该半透光部的光,对于所述多个第一电极,分别以形成所述第一电极的开口的方式形成覆盖所述第一电极的外周的覆盖层,所述遮光部以如下方式形成:通过由所述遮光部阻断光,形成使多个所述覆盖层的至少一部分相互分离的分离区域。
根据本发明的一个方式所涉及的显示器件的制造方法,包括如下工序:用感光性有机材料覆盖形成于平坦化膜的表面的多个第一电极的感光层形成工序;以及使用阻断来自光源的光的一部分的光掩模对所述感光性有机材料进行曝光后,以进行显影而形成所述第一电极的开口的方式,形成覆盖所述第一电极的外周的覆盖层的覆盖层形成工序,所述光掩模包括:阻断来自所述光源的光的一部分的半透光部;以及使所述光透过的透光部,在所述覆盖层形成工序中,变更所述光掩模的位置并进行多次曝光,所述覆盖层以与相邻的其他所述第一电极的覆盖层相互分离的方式形成。
发明效果
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