[发明专利]显示器件、曝光装置、显示器件的制造方法在审
| 申请号: | 201780095348.5 | 申请日: | 2017-09-29 |
| 公开(公告)号: | CN111165073A | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
| 发明(设计)人: | 市川伸治;谷山博己;斋田信介;郡司辽佑;冈部达;仲田芳浩;神村浩治;井上彬 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
| 主分类号: | H05B33/12 | 分类号: | H05B33/12;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/10;H05B33/22 |
| 代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 王娟 |
| 地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示 器件 曝光 装置 制造 方法 | ||
1.一种显示器件,其具备多个图像元素,所述显示器件的特征在于,
在所述多个图像元素中分别形成第一电极,
以形成所述第一电极的开口的方式,形成覆盖所述第一电极的外周的覆盖层,
所述覆盖层与相邻的其他所述第一电极的覆盖层相互分离。
2.根据权利要求1所述的显示器件,其特征在于,
在多个所述第一电极之间设置有与所述覆盖层形成于相同层的隔离物,
所述隔离物以比所述覆盖层高的高度形成,
所述隔离物的外缘部与所述覆盖层的外缘部分离。
3.根据权利要求2所述的显示器件,其特征在于,
还具备与所述第一电极相对的第二电极,
所述第一电极和所述覆盖层形成于平坦化膜的表面,
以包围包含所述多个图像元素的显示区域的方式在所述平坦化膜上形成狭缝,所述第二电极与薄层晶体管层的布线经由该狭缝电导通,
以包围所述显示区域和所述狭缝的方式形成与所述覆盖层相同层的框状隔离物,所述框状隔离物与所述隔离物的高度相同。
4.一种曝光装置,其对覆盖形成于平坦化膜的表面的多个第一电极的感光性有机材料膜,利用光刻法进行图案形成,所述曝光装置的特征在于,具备:
发出对所述感光性有机材料膜进行曝光的光的光源;以及
阻断来自所述光源的光的一部分的光掩模,
所述光掩模包括:阻断来自所述光源的光的一部分的半透光部;以及使所述光透过的透光部,
所述半透光部以如下方式形成:通过透过该半透光部的光,对于所述多个第一电极,分别形成所述第一电极的开口和覆盖所述第一电极的外周的覆盖层,
所述透光部以如下方式形成:通过透过所述透光部的光,形成使多个所述覆盖层的至少一部分相互分离的分离区域。
5.根据权利要求4所述的曝光装置,其特征在于,
所述光掩模还包括阻断所述光的遮光部,
所述遮光部以如下方式形成:在所述平坦化膜的表面的所述多个第一电极之间的区域,形成具有比所述覆盖层高的高度的隔离物。
6.一种曝光装置,其对覆盖形成于平坦化膜的表面的多个第一电极的感光性有机材料膜,利用光刻法进行图案形成,所述曝光装置的特征在于,具备:
发出对所述感光性有机材料膜进行曝光的光的光源;以及
阻断来自所述光源的光的一部分的光掩模,
所述光掩模包括:阻断来自所述光源的光的一部分的半透光部;以及阻断所述光的遮光部,
所述半透光部以如下方式形成:通过透过该半透光部的光,对于所述多个第一电极,分别形成所述第一电极和覆盖所述第一电极的外周的覆盖层,
所述遮光部以如下方式形成:通过由所述遮光部阻断光,形成使多个所述覆盖层的至少一部分相互分离的分离区域。
7.根据权利要求6所述的曝光装置,其特征在于,
所述光掩模还包括使所述光透过的透光部,
所述透光部以如下方式形成:通过透过该透光部的光,在所述平坦化膜的表面的所述多个第一电极之间的区域形成具有比所述覆盖层高的高度的隔离物。
8.一种显示器件的制造方法,其特征在于,包括如下工序:
用感光性有机材料覆盖形成于平坦化膜的表面的多个第一电极的感光层形成工序;以及
使用阻断来自光源的光的一部分的光掩模对所述感光性有机材料进行曝光后,以进行显影而形成所述第一电极的开口的方式,形成覆盖所述第一电极的外周的覆盖层的覆盖层形成工序,
所述光掩模包括:阻断来自所述光源的光的一部分的半透光部;以及使所述光透过的透光部,
在所述覆盖层形成工序中,变更所述光掩模的位置并进行多次曝光,所述覆盖层以与相邻的其他所述第一电极的覆盖层相互分离的方式形成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社,未经夏普株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780095348.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:包括超导材料的凸块下金属化结构
- 下一篇:启用量子计算的云环境中的作业处理





