[发明专利]有机EL显示装置的制造方法及制造装置在审
| 申请号: | 201780089292.2 | 申请日: | 2017-04-14 |
| 公开(公告)号: | CN110476483A | 公开(公告)日: | 2019-11-19 |
| 发明(设计)人: | 岸本克彦 | 申请(专利权)人: | 堺显示器制品株式会社 |
| 主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10;C23C14/24;H01L27/32;H01L51/50 |
| 代理公司: | 44334 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郝家欢<国际申请>=PCT/JP2017 |
| 地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 有机层 蒸镀掩模 第二电极 支撑基板 露出面 有机EL显示装置 改质处理 有机材料 面安装 时间点 蒸镀源 飞散 改质 期望 制造 | ||
一个实施方式的有机EL显示装置的制造方法,在与蒸镀源相对的面实施改质处理(S2),在蒸镀掩模的一个面安装支撑基板(S3),通过朝向蒸镀掩模使期望的有机材料飞散,从而在支撑基板的规定的位置对由多个层构成的有机层进行层叠(S4),在有机层之上形成第二电极(S8)。并且,在由多个层构成的有机层的层叠之前、由多个层构成的有机层的各有机层的层叠之前或者之后、及所述第二电极的形成之前的至少1个时间点,使蒸镀掩模的露出面或者在蒸镀掩模上形成的有机层的露出面改质。
技术领域
本发明涉及一种有机EL显示装置的制造方法及制造装置。
背景技术
在制造有机EL显示装置的情况下,例如在支撑基板上形成TFT等的驱动元件,在其上,有机层与每个像素对应而层叠。由于该有机层怕水,因此有机层无法耐受蚀刻。因此,在被蒸镀基板上重叠地配置蒸镀掩模,经由该蒸镀掩模对有机材料进行蒸镀。并且,仅在必要的像素上层叠的有机层。
另一方面,蒸镀掩模并不仅是为了对1个被蒸镀基板进行蒸镀而使用,在多个被蒸镀基板上连续地进行蒸镀的情况下也可以使用。另外,在对相同被蒸镀基板的相同像素进行蒸镀的情况下,有时也会更换进行蒸镀的有机材料,或者隔着其它工序再次使用相同的蒸镀掩模。因此,在蒸镀掩模的未开口的部分,有机材料会沉积而逐渐地变厚。如果该有机材料的沉积变多,则存在在蒸镀掩模上附着的有机材料的一部分剥离,运送至被蒸镀基板而附着于被蒸镀基板的非意图的部分这样的危险性。因此,沉积了一定厚度的有机材料的蒸镀掩模被清洗,有机层被去除(例如参照专利文献1)。在专利文献1中公开了通过照射激光,从而利用该冲击波将在掩模上附着的有机层剥离。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2009-117231号公报
发明内容
本发明所要解决的技术问题
在前述的蒸镀掩模上附着的附着物的去除,每一片蒸镀掩模需要4~5小时的程度这样非常长的时间。另一方面,作为蒸镀时间,在1片被蒸镀基板上沉积一层的有机材料所需的是数十秒至数分钟的数量级。在1片蒸镀掩模使用多次的情况下,有机材料的成膜速度,在慢的材料中为/s程度,因此达到必须去除有机层的沉积厚度(例如设为1μm程度)的时间,即使最长也为约150分钟的程度。因此,蒸镀工序的时间,因蒸镀掩模的清洗时间拖后腿而变长。为了在短时间内结束蒸镀工序,需要非常多的预备的蒸镀掩模。因此,存在成为成本增加的原因的问题。
另外,蒸镀掩模当前是金属掩模,但近年来要求显示装置的精细化,像素也变小,因此存在使用在树脂薄膜上形成开口的树脂掩模、或将该树脂掩模的一部分由金属支撑层加强的混合型的掩模的倾向。这是因为,如果使用树脂薄膜,则利用激光加工等容易形成精细的开口的图案。由此,伴随显示装置的高精细化,有时使用至少蒸镀掩模的开口部分为树脂薄膜的掩模。并且,开口的图案变小。因此,如果蒸镀掩模的清洗进行多次,则存在蒸镀掩模、即树脂薄膜的开口的附近容易受到损伤的问题。这样,还存在高价的蒸镀掩模的寿命变短的问题。
本发明就是鉴于这种状况,其目的在于,通过尽可能延长对在蒸镀掩模上沉积的无用的有机层进行去除的清洗的时间点,从而减少预备的蒸镀掩模的数量,或者缩短蒸镀工序的生产节拍时间,进而使有机EL显示装置的制造成本降低。
本发明的其它的目的在于,通过减少相对于蒸镀掩模的使用频率的、清洗的次数,延长蒸镀掩模的寿命,从而使有机EL显示装置的制造成本降低。
解决问题的手段
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