[发明专利]具有输送锁定件的光学配置，尤其是光刻系统

说明书

本发明关于光学配置，例如光刻系统，其包含：第一部件(19)，特别是承载框；第二部件(13)，其可相对第一部件(19)移动，特别是反射镜；以及至少一个止挡件(20)，其具有至少一个止挡面(20a、20b)用于限制第二部件(13)相对第一部件(19)的移动。在本发明一个方面中，光学配置(较佳为止挡件(20))具有用于固定第二部件(13)的固定装置(23)，其至少包含可相对止挡件(20)的止挡面(21a、21b)移动的固定元件(24)。本发明的其他方面同样关于具有固定装置或具有输送锁定件的光学配置。

相关申请的交叉引用

本申请主张2017年1月17日申请的德国专利申请10 2017 200 636.6的优先权，其全部公开内容视为本申请公开内容的一部分并以引用的方式并入本文。

技术领域

本发明的一方面关于一装置，例如光刻系统，特别是EUV光刻系统，其包含：第一部件(特别是承载框)、相对于第一部件可移动的第二部件(特别是反射镜)、以及具有用以限制第二部件相对第一部件的移动的至少一个止挡面的至少一个止挡件。

背景技术

针对本申请案的目的，将光刻系统理解为可用于光刻领域的光学系统或光学配置。除了用于生产半导体部件的光刻装置外，光学系统也可例如为用以检查在光刻装置中所使用的光掩模(以下也称为掩模母版)、用以检查待结构化的半导体基板(在下文中也称为晶片)的检查系统，或为用以测量光刻装置或其部分(例如用以测量投射系统)的度量系统。光学配置或光刻系统可特别为EUV光刻系统，其设计用于波长在约5nm与约30nm之间的EUV波长范围中的使用辐射。

在下文中经常提到可移动(第二)部件或形式为反射镜的移动/可移动物体(特别是EUV反射镜)。然而，原则上，可移动部件也可为任何其他物体或任何其他部件或子部件，例如光学部件，如透镜或棱镜、晶片台、机床的零件、用于光学或非光学部件的其他承载框架或承载结构等。

第一部件可例如为光学配置的承载框(称作“力框”)，其实质地吸收作用在光学配置上的所有力。可移动部件通常相对承载框弹簧式安装、或与其机械地解耦，使得理想上没有力或振动从承载框传输到可移动部件。然而，第一部件也可为某些其他部件，例如载体部件，其相对光学配置的承载框弹簧式安装或与其机械地解耦。

在EUV光刻装置的情况下，特别是在用以将掩模的像投射到光敏感基板上的EUV镜头的情况下，成像质量相对于EUV反射镜的光学表面的变形的敏感度将特别大。假设这种镜头的光学设计被校正到约10mλ，其中λ表示工作波长，则在约13.5nm的工作波长λ处存在约135pm的最大允许波前误差。这表示约50pm的EUV反射镜的表面变形已经导致显著的波前像差。因此，在EUV光刻装置或EUV镜头的操作期间，EUV反射镜被设定为暂停状态，使得作用于EUV反射镜的力和力矩尽可能小。这种暂停状态或与周围环境机械地解耦的状态所具有的结果为，EUV反射镜实际上可在其端部位置之间自由地移动，这些端部位置通常由端部止挡件所限定，且可能与端部止挡件碰撞。特别是在输送EUV光刻装置时，还有在发生地震时，这可能导致对EUV反射镜或其他部件的损坏。

在传统EUV镜头的情况下，这个问题通过在输送期间将其反转来解决。在此情况下，造成重量补偿及导致EUV反射镜在EUV镜头或EUV光刻装置的操作位置处的暂停状态的力、以及反射镜重量的力，相加在一起而形成总体力或总体加速度，其大致对应于由重力引起的加速度的两倍(2g)。以此方式，反射镜通常保持固定在其垂直端部位置，直到2g数量级的加速度。在更大加速度的情况下，EUV反射镜可能离开端部位置并再次自由地位于端部位置之间，即EUV反射镜的固定在可承受的冲击负载方面受到限制。在未来的EUV镜头情况下，EUV反射镜有可能变得太大太重，而使得EUV镜头的反转不再是适当的或可能的。