[发明专利]设备和操作设备的方法

说明书

本发明涉及一种系统(100)，其具有：产生辐射的辐射源(106A)；在系统(100)中引导辐射的多个光学元件(110、112、114、116、118)；N1个阵列(210‑260)，其中N1≥1，其中N1个阵列(210‑260)中的每一个包括至少一个致动器/传感器装置(311‑31N、321‑32N、331‑33N、341‑34N、351‑35N、361‑36N)，其与光学元件(110、112、114、116、118)之一配对；驱动N1个阵列(210‑260)的N2个局部驱动单元(410、420、430、440、450、460)，其中N2≥2；以及驱动N2个局部驱动单元(410、420、430、440、450、460)的N3个中央驱动单元(510、520)，其中N3≥1。因此，防止热点并且热分布是协调且优化的。此外提供了致动器/传感器装置的冗余致动可能性，所述致动可能性增加了在故障的事情中系统的可用性。

技术领域

本发明涉及例如光刻设备或多个反射镜系统的设备，以及操作设备的方法。设备或光刻设备包括产生辐射的辐射源、在设备中引导辐射的多个光学部件、光学部件的多个致动器/传感器装置、以及驱动致动器/传感器装置的驱动装置。

背景技术

微光刻用于制造微结构部件，例如集成电路。使用具有照明系统和投射系统的光刻设备进行微光刻工艺。在这种情况下，通过投射系统将通过照明系统所照明的掩模(掩模母版)的像投射到涂有感光层(光刻胶)且在投射系统的像平面中布置的基板(例如硅晶片)上，以便于将掩模结构转印至基板的感光涂层。

由在集成电路制造中对于更小的结构的期望的驱动，目前发展的是EUV光刻设备，该EUV光刻设备使用的光的波长在0.1nm至30nm，尤其是4nm至6nm的范围中。在这种EUV光刻设备的情况中，因为该波长的光被大多数材料高度吸收，不得不使用反射光学单元(也就是说反射镜)以代替前述的折射光学单元(也就是说透镜元件)。出于相同的原因，应当在真空中进行束成形和束投射。

反射镜例如可以被固定至支撑框架(力框架)且配置为至少部分可操纵的或可倾斜的，以便允许相应的反射镜以最多六个自由度来移动，并且因而允许反射镜关于彼此的高准确定位，特别是在pm的范围中。这允许例如在操作光刻设备期间例如作为热影响的结果而发生的光学性质的改变得以校正。

出于特别是以六个自由度移动反射镜的目的，将通过控制回路驱动的致动器分配给所述反射镜。监控相应的反射镜的倾斜角的装置配备为控制回路的部分。

例如，WO2009/100856 A1披露了光刻设备的投射曝光设备的分面反射镜，该分面反射镜具有多个可独立位移的单独反射镜。为了确保投射曝光设备的光学质量，可位移的单独反射镜的非常精确定位是必须的。

出于定位可位移的单独反射镜的目的，使用用于位移单独反射镜的致动器装置和用于确定单独反射镜的位置的传感器装置。

在光刻设备的真空外壳中布置的驱动装置用于驱动致动器装置和传感器装置。

所述驱动装置设计为驱动光刻设备的真空外壳中的多个致动器装置和传感器装置。

然而，在光刻设备的真空外壳中的这样的中央驱动装置是大热源，其继而导致由冷却和与冷却相关联的能量消耗构成的严格局部需求。在这种情况下，应该注意的是，例如EUV光刻设备要求反射镜的高定位稳定性。因此任何类型的振动是关键的，例如这由用于冷却中央控制装置的诸如水的冷却剂的流动引起。此外，这样的振动的主动补偿需要大的控制带宽，其继而需要中央驱动装置的高计算能力。所需要的这样的高计算能力继而需要增加的能量消耗并且因此需要增加对冷却的消耗。

中央驱动装置的其他缺点在于这一个中央驱动装置的故障引起系统立即故障。由于在光刻设备的真空外壳中的中央驱动装置的所需要布置，在这样的单独故障的情况下修复时间还是非常长的。

发明内容

针对该背景，本发明的目的是提供例如改进的光刻设备的改进设备。