[发明专利]发光设备

权利要求书

1.一种发光设备(1)，包括：

发光元件(2)，包括第一表面(21)，

至少一个冷却元件(3)，被布置在所述发光元件的所述第一表面处，以及

多个间隔元件(5)，被布置在所述冷却元件(3)与所述发光元件的所述第一表面(21)之间，使得所述冷却元件被布置成与所述发光元件的所述第一表面间隔开距离d，其中，

所述至少一个冷却元件(3)包括使得适用于跟随所述发光元件(2)的翘曲的顺应性，以及其中，

力(F)被施加以迫使所述至少一个冷却元件(3)和所述发光元件(2)在一起，使得所述至少一个冷却元件和所述发光元件中没有部分直接相互接触，

所述发光设备(1)还包括力施加设备(8)，所述力施加设备(8)适用于施加将被施加以迫使所述至少一个冷却元件(3)和所述发光元件(2)在一起的所述力。

2.根据权利要求1所述的发光设备，其中仅所述至少一个冷却元件(3)的面向所述发光元件(2)的部分包括：使得所述冷却元件适用于跟随由所述发光元件内的光和/或热传播引起的所述发光元件的翘曲的所述顺应性，使得所述至少一个冷却元件和所述发光元件中没有部分相互接触。

3.根据权利要求1或2所述的发光设备，其中所述多个间隔元件(5)是被设置在所述至少一个冷却元件上的表面结构中的一个表面结构，并且是分离的间隔元件。

4.根据权利要求1-2中任一项所述的发光设备，其中所述多个间隔元件(5)是纳米球形式的珠子。

5.根据权利要求4所述的发光设备，其中所述纳米球是TiO₂纳米球、Al₂O₃纳米球、二氧化硅纳米球、单分散二氧化硅纳米球或涂覆银的纳米球。

6.根据权利要求1、2和5中任一项所述的发光设备，其中所述冷却元件(3)包括多个凹陷，所述多个凹陷适用于设置以凸起形式、在所述冷却元件上形成所述多个间隔元件(5)的表面结构。

7.根据权利要求1、2和5中任一项所述的发光设备，其中所述多个间隔元件(5)的最小密度是根据所述至少一个冷却元件(3)的所述顺应性来选择的，使得所述至少一个冷却元件和所述发光元件中没有部分相互接触。

8.根据权利要求1、2和5中任一项所述的发光设备，其中所述多个间隔元件(5)的最大密度是根据由所述间隔元件造成的光损失的量来选择的。

9.根据权利要求1、2和5中任一项所述的发光设备，其中所述间隔元件(5)被均匀地分布在所述发光元件(2)的所述第一表面(21)上。

10.根据权利要求1、2和5中任一项所述的发光设备，其中所述间隔元件(5)借助于湿式喷涂、半湿式喷涂、干式喷涂、湿式刻蚀、干式刻蚀或阳极氧化然后激光烧蚀或雕刻，而被设置在所述冷却元件上。

11.根据权利要求1、2和5中任一项所述的发光设备，其中所述冷却元件(3)被布置成与所述发光元件(2)的所述第一表面间隔开的所述距离d在所述发光元件的所述第一表面的延伸上是均匀的，和/或其中，所述冷却元件(3)被布置成与所述发光元件(2)的所述第一表面间隔开的所述距离d大于1μm且小于10μm。

12.根据权利要求11所述的发光设备，其中所述距离d大于1μm且小于5μm。