[发明专利]光学部件及使用该光学部件的液晶面板及它们的制造方法在审
申请号: | 201780073924.6 | 申请日: | 2017-12-05 |
公开(公告)号: | CN110023799A | 公开(公告)日: | 2019-07-16 |
发明(设计)人: | 粟屋信义;田名网克周;田中觉 | 申请(专利权)人: | SCIVAX株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/13363;G02F1/1337;G02F1/1368 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 梁海莲;余明伟 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学部件 凸部 使用频带 液晶面板 透明的 基板 线栅 覆盖 电介质形成 材料形成 光学特性 间隙状 空隙部 透射率 波长 栅部 连结 制造 配置 | ||
1.一种光学部件,其特征在于,具备:
基板,其采用对使用频带的光而言透明的材料形成;
线栅部,其在所述基板上呈线与间隙状地配置有多个凸部;
覆盖部,其采用对使用频带的光而言透明的电介质形成,并且覆盖所述线栅部;以及
空隙部,其形成在所述线栅部的相邻的所述凸部间,与连结该相邻的凸部的顶点彼此而成的直线相比向所述覆盖部侧突出。
2.根据权利要求1所述的光学部件,其特征在于:
所述空隙部与连结所述凸部的顶点彼此而成的直线相比向所述覆盖部侧突出的部分的长度相对于所述凸部的高度为10%以上。
3.根据权利要求1或2所述的光学部件,其特征在于:
关于所述空隙部,在形成在所述凸部间的凹部的深度的一半以上之处空隙部的宽度相对于该凹部的宽度为三分之二以上。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学部件,其特征在于:
所述空隙部与连结所述相邻的凸部的底部彼此而成的直线相比向所述基板侧突出。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学部件,其特征在于:
在所述基板的与配置所述线栅部的面相反一侧的面形成有对光赋予相位差的相位差元件构造。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学部件,其特征在于:
所述覆盖部的与配置所述线栅部的面相反一侧的面平坦地形成为平面度小于10nm。
7.根据权利要求6所述的光学部件,其特征在于:
具备形成在所述覆盖部的与配置所述线栅部的面相反一侧的面的薄膜晶体管。
8.根据权利要求1至4中任一项所述的光学部件,其特征在于:
具备形成在所述基板的与配置所述线栅部的面相反一侧的面的薄膜晶体管。
9.根据权利要求1至6中任一项所述的光学部件,其特征在于:
所述光学部件在用于形成取向膜的紫外线照射装置中使紫外线偏振,
所述基板及所述覆盖部采用对于紫外线而言透明的材料形成。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的光学部件,其特征在于:
所述覆盖部的厚度是使所述使用频带的光的透射光因发生干涉而相长的厚度。
11.一种液晶面板,其特征在于:
在权利要求6至8中任一项所述的光学部件的表面一体地形成有液晶单元。
12.一种光学部件制造方法,其特征在于,包括:
形成基板、金属层和掩模层的多层形成工序,其中,该基板采用对使用频带的光而言透明的材料形成,该金属层形成在该基板上,采用金属或金属氧化物形成,该掩模层采用对使用频带的光而言透明的电介质形成,并且用于在所述金属层形成作为线栅发挥功能的凹凸构造;
线栅部形成工序,将所述掩模层作为掩模进行蚀刻,以残留所述掩模的一部分的方式在所述金属层上形成作为线栅发挥功能的凹凸构造;以及
覆盖部成膜工序,在所述凹凸构造上形成采用对使用频带的光而言透明的电介质形成的覆盖部。
13.根据权利要求12所述的光学部件制造方法,其特征在于:
所述线栅形成工序将所述掩模层的一部分残留所述金属层的厚度的10%以上。
14.根据权利要求12或13所述的光学部件制造方法,其特征在于:
具有使所述覆盖部的表面平坦化为平面度小于10nm的平坦化工序。
15.一种液晶面板的制造方法,其特征在于:
具有在权利要求6至8中任一项所述的光学部件的表面一体地形成液晶单元的液晶单元形成工序。
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