[发明专利]使用叠层差异的设计和校正

权利要求书

1.一种量测方法，包括：

获得用于图案化过程的、是量测目标的叠层差异参数的函数的所述量测目标的重叠的数据的拟合；和

通过硬件计算机使用所述拟合的斜率以：(i)区分一个量测目标测量选配方案与另一个量测目标测量选配方案；或者(ii)计算重叠的校正值；或者(iii)指示利用所述量测目标获得的重叠测量值应该被使用或者不应该被使用，以配置或修改所述图案化过程；或者(iv)选自(i)至(iii)中的任意组合。

2.如权利要求1所述的量测方法，其中，在所述量测目标的图像的像素水平，计算所述重叠和叠层差异参数数据。

3.如权利要求1所述的量测方法，其中，根据从所述量测目标测得的衍射辐射的强度的图像平面检测，计算所述重叠和叠层差异参数。

4.如权利要求1至3中任一项所述的量测方法，还包括：通过使用用于所述量测目标的第一周期性结构的图像的第一部位的辐射强度数据与用于所述量测目标的第二周期性结构的图像的第二部位的辐射强度数据的组合，导出所述重叠和/或叠层差异参数数据，其中，所述第二部位在与所述第一部位旋转对称的位置。

5.如权利要求1至3中任一项所述的量测方法，其中，所述叠层差异参数包括所述量测目标的具有第一偏置值的周期性结构的强度值的组合减去所述量测目标的具有不同的第二偏置值的周期性结构的强度值的组合。

6.如权利要求1至3中任一项所述的量测方法，其中，所述拟合是线性拟合。

7.如权利要求1至3中任一项所述的量测方法，包括：使用所述拟合的斜率计算重叠的校正值。

8.如权利要求1至3中任一项所述的量测方法，包括：使用所述拟合的斜率区分一个量测目标测量选配方案与另一个量测目标测量选配方案。

9.如权利要求1至3中任一项所述的量测方法，包括：基于所述拟合的斜率配置或修改所述图案化过程。

10.一种量测方法，包括：

获得用于图案化过程的量测目标的区域的周期性结构强度不平衡性参数值，所述区域被预期为具有最小叠层差异；

找出非重叠诱发的周期性结构强度不平衡性参数值，所述非重叠诱发的周期性结构强度不平衡性参数值用作用于所述量测目标的平均周期性结构强度不平衡性参数值与用于所述区域的周期性结构强度不平衡性参数值之间的差值；以及

使用非重叠诱发的周期性结构强度不平衡性参数差值计算校正重叠值。

11.如权利要求10所述的量测方法，还包括：组合所述非重叠诱发的周期性结构强度不平衡性参数差值与用于所述量测目标的重叠的数据的拟合的斜率，以计算所述校正重叠值，所述拟合的斜率是所述量测目标的叠层差异诱发的周期性结构强度不平衡性参数的函数。

12.如权利要求10所述的量测方法，其中，所述区域是所述量测目标的第一周期性结构内的部位，并且从所述区域到所述量测目标的第二周期性结构的距离介于所述第一周期性结构与所述第二周期性结构之间的最短距离的90％至110％之间，所述量测目标的第二周期性结构具有不同的第二偏置。

13.如权利要求10至12中任一项所述的量测方法，还包括：通过使用用于所述量测目标的第一周期性结构的图像的第一部位的辐射强度数据与用于所述量测目标的第二周期性结构的图像的第二部位的辐射强度数据的组合，导出所述区域的周期性结构强度不平衡性参数，其中，所述第二部位在与所述第一部位旋转对称的位置。

14.如权利要求10至12中任一项所述的量测方法，其中，所述区域的周期性结构强度不平衡性参数包括：所述量测目标的具有第一偏置值的周期性结构的强度值的组合减去所述量测目标的具有不同的第二偏置值的周期性结构的强度值的组合。