[发明专利]可逆性记录介质、用于可逆性记录介质的涂料和外部部件

权利要求书

1.一种可逆性记录介质，包括：

支撑基底；和

设置在所述支撑基底上的并且在记录状态与删除状态之间可逆地改变的记录层，

所述记录层包含

光热转化材料，所述光热转化材料包括具有菁骨架的化合物，所述具有菁骨架的化合物在分子中包含SbF₆、PF₆、BF₄、ClO₄、CF₃SO₃和(CF₃SO₃)₂N中的一种作为反离子以及含有五元环或六元环的次甲基链，

具有供电子性质的显色性化合物，和

具有电子接收性质并且包括由以下通式(1)表示的至少一种化合物的显色/减色剂：

其中X是-NHCO-、-CONH-、-NHCONH-、-CONHCO-、-NHNHCO-、-CONHNH-、-CONHNHCO-、-NHCOCONH-、-NHCONHCO-、-CONHCONH-、-NHNHCONH-、-NHCONHNH-、-CONHNHCONH-、-NHCONHNHCO-和-CONHNHCONH-中的一种，并且R是具有25至34个碳原子的直链烃基。

2.根据权利要求1所述的可逆性记录介质，其中所述记录层包含两种以上的所述显色性化合物。

3.根据权利要求1所述的可逆性记录介质，其中所述记录层包括多个层。

4.根据权利要求1所述的可逆性记录介质，其中

所述记录层作为多个层包括第一层和第二层，并且

所述第一层和所述第二层包括具有互不相同的吸收波长范围的光热转化材料。

5.根据权利要求1所述的可逆性记录介质，其中所述光热转化材料具有700nm至2,000nm范围内的吸收峰波长。

6.根据权利要求1所述的可逆性记录介质，其中所述记录层还包含热固性树脂或热塑性树脂。

7.根据权利要求1所述的可逆性记录介质，其中通过照射预定波长范围内的近红外线来实施向所述记录层的记录和所述记录的删除。

8.根据权利要求1所述的可逆性记录介质，其中通过照射半导体激光来实施向所述记录层的记录和所述记录的删除。

9.一种可逆性记录介质，包括：

支撑基底；和

设置在所述支撑基底上的并且在记录状态与删除状态之间可逆地改变的记录层，

所述记录层包含

光热转化材料，所述光热转化材料包含具有菁骨架的化合物，所述具有菁骨架的化合物在分子中包含SbF₆、PF₆、BF₄、ClO₄、CF₃SO₃和(CF₃SO₃)₂N中的一种作为反离子以及含有五元环或六元环的次甲基链，

具有供电子性质并且由以下通式(2)表示的显色性化合物：

其中R1和R2各自独立地表示苯基、氨基苯基、吲哚基、苯并吲哚基、juryroindolyl基、cairolyl基、喹啉基、萘基或烷基，或者它们的衍生物，或者R1和R2也可通过碳(C)、氮(N)、氧(O)和硫(S)彼此键合以形成稠合脂肪族环或稠合芳香族环，和

具有接受电子性质的显色/减色剂。