[发明专利]体积调制弧度治疗中优化准直器轨迹的方法

权利要求书

1.一种存储有指令的非瞬态存储介质，所述指令可由计算机(22)读取和运行以执行连续弧度辐射治疗规划方法，用于规划由沿着至少一个辐射源弧的控制点(CP)的参数集参数化的辐射治疗疗程，所述规划方法包括：

执行不包括计算辐射吸收概况的几何优化(40)以生成所述参数集的子集的经优化的值；

在完成所述几何优化之后，执行主优化(42)，所述主优化包括计算辐射吸收概况，其中，利用所述参数集的所述子集来执行所述主优化，所述参数集的所述子集被初始化为通过所述几何优化生成的所述子集的所述经优化的值；并且

将包括通过所述主优化输出的所述参数集的经优化的值的辐射治疗计划存储在非瞬态辐射治疗计划储存设备(44)中。

2.根据权利要求1所述的非瞬态存储介质，其中，执行所述主优化(42)包括：

利用所述参数集的所述子集来执行所述主优化，所述参数集的所述子集被保持恒定在在通过所述几何优化(40)生成的所述子集的所述经优化的值，其中，通过所述主优化输出的所述参数集包括通过所述几何优化生成的所述子集的所述经优化的值。

3.根据权利要求1所述的非瞬态存储介质，其中，所述主优化(42)包括调整所述参数集的所述子集的值，其中，通过所述主优化输出的所述参数集包括通过所述几何优化(40)生成并且通过所述主优化调整的所述子集的所述经优化的值。

4.根据权利要求1-3中的任一项所述的非瞬态存储介质，其中，所述参数集的所述子集包括准直器角度参数，所述准直器角度参数指定沿着所述至少一个辐射源弧的在所述CP中的每个CP处的多叶准直器(MLC)(58)的准直器角度。

5.根据权利要求4所述的非瞬态存储介质，其中，所述参数集的所述子集还包括指定辐射源机架(54、60)的旋转速度的一个或多个机架旋转速度参数和指定沿着所述至少一个辐射源弧的所述CP中的每个CP处的所述MLC(58)的旋转速度的一个或多个准直器旋转速度参数。

6.根据权利要求4-5中的任一项所述的非瞬态存储介质，其中，所述几何优化(40)是约束优化，所述约束优化受沿着所述至少一个辐射源弧的相继的CP之间的最大准直器角度变化的约束。

7.根据权利要求1-6中的任一项所述的非瞬态存储介质，其中，所述几何优化(40)包括代价函数的优化，所述代价函数包括二维(2D)逐CP代价函数的沿着所述至少一个辐射源弧在所述CP上的加和，其中，所述逐CP代价函数取决于所述CP的射束视角(BEV)中的一个或多个2D区域。

8.根据权利要求7所述的非瞬态存储介质，其中，所述CP的所述BEV中的所述一个或多个2D区域包括仅目标区域(62)，所述仅目标区域被定义为排除了规划目标体积(PTV)的与风险器官(OAR)区域交叠的任何部分的所述PTV，其中，所述PTV具有辐射剂量目标，并且每个OAR区域具有最大允许辐射剂量目标或约束。

9.根据权利要求1-8中的任一项所述的非瞬态存储介质，其中，所述非瞬态存储介质还存储可由计算机(22)读取和执行以根据所存储的辐射治疗计划操作辐射治疗递送装置(50)来向患者递送连续弧度辐射治疗的指令。