[发明专利]聚酰胺酸、聚酰亚胺、聚酰亚胺薄膜、含有该薄膜的图像显示设备及聚酰胺酸的制备方法有效

专利信息
申请号: 201780061826.0 申请日: 2017-09-28
公开(公告)号: CN109790290B 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 崔斗力;郑鹤基 申请(专利权)人: 可隆工业株式会社
主分类号: C08G73/10 分类号: C08G73/10
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 姜虎;陈英俊
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 聚酰胺 聚酰亚胺 薄膜 含有 图像 显示 设备 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种聚酰胺酸,包含源自二胺的重复单元和源自二酐的重复单元,其特征在于,

所述源自二胺的重复单元包含源自2,2’-双(三氟甲基)联苯胺的重复单元和源自间苯二胺的重复单元,以100摩尔%的所述源自二胺的重复单元为基准,所述源自间苯二胺的重复单元的含量为10~20摩尔%,

所述源自二酐的重复单元包含源自均苯四甲酸二酐的重复单元和源自3,3,4,4-联苯四羧酸二酐的重复单元,所述源自间苯二胺的重复单元与所述源自3,3,4,4-联苯四羧酸二酐的重复单元的摩尔比为1:1~1.5;

以100摩尔%的源自二胺的重复单元为基准,所述源自二胺的重复单元进一步包含1~10%摩尔%的源自9,9-双(3-氟-4-氨基苯基)芴的重复单元,

在所述源自二胺的重复单元中,所包含的所述源自间苯二胺的重复单元和所述源自9,9-双(3-氟-4-氨基苯基)芴的重复单元的总量为大于10摩尔%且20摩尔%以下。

2.一种聚酰亚胺,包含源自二胺的重复单元和源自二酐的重复单元,其特征在于,

所述源自二胺的重复单元包含源自2,2’-双(三氟甲基)联苯胺的重复单元和源自间苯二胺的重复单元,以100摩尔%的源自所述二胺的重复单元为基准,所述源自间苯二胺的重复单元的含量为10~20摩尔%,

所述源自二酐的重复单元包含源自均苯四甲酸二酐的重复单元和源自3,3,4,4-联苯四羧酸二酐的重复单元,所述源自间苯二胺的重复单元与所述源自3,3,4,4-联苯四羧酸二酐的重复单元的摩尔比为1:1~1.5,

以100摩尔%的源自二胺的重复单元为基准,所述源自二胺的重复单元进一步包含源自9,9-双(3-氟-4-氨基苯基)芴的重复单元1~10摩尔%,

在所述源自二胺的重复单元中,所包含的所述源自间苯二胺的重复单元和所述源自9,9-双(3-氟-4-氨基苯基)芴的重复单元的总量为大于10摩尔%且20摩尔%以下。

3.一种聚酰亚胺薄膜,其特征在于,包含如权利要求2所述的聚酰亚胺。

4.一种图像显示设备,其特征在于,包含如权利要求3所述的聚酰亚胺薄膜。

5.一种聚酰胺酸的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

步骤S1,将包含2,2’-双(三氟甲基)联苯胺和间苯二胺的二胺添加到溶剂中,进行溶解,以制备二胺溶液;

步骤S2,将包含3,3,4,4-联苯四羧酸二酐和均苯四甲酸二酐的二酐添加到在所述步骤S1中制备的二胺溶液中,进行反应,

在所述步骤S1中,以100摩尔%的二胺为基准,添加10~20摩尔%的所述间苯二胺,

在所述步骤S2中,添加所述3,3,4,4-联苯四羧酸二酐,以使所述间苯二胺的重复单元与所述3,3,4,4-联苯四羧酸二酐的摩尔比为1:1~1.5,

在所述步骤S1中,制备所述二胺溶液时,以100摩尔%的所述二胺为基准,添加1~10摩尔%的9,9-双(3-氟-4-氨基苯基)芴,

在所述步骤S1中,制备所述二胺溶液时,所添加的所述间苯二胺和所述9,9-双(3-氟-4-氨基苯基)芴的总量为大于10摩尔%且20摩尔%以下。

6.根据权利要求5所述的聚酰胺酸的制备方法,其特征在于,

在所述步骤S2中,将3,3,4,4-联苯四羧酸二酐添加到在所述步骤S1中制备的二胺溶液中,进行第一次反应后,添加均苯四甲酸二酐,进行第二次反应。

7.根据权利要求6所述的聚酰胺酸的制备方法,其特征在于,

在所述步骤S2中,第一次反应是在25~30℃下进行3至5小时。

8.根据权利要求6所述的聚酰胺酸的制备方法,其特征在于,

在所述步骤S2中,第二次反应是在25~40℃下进行12至20小时。

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