[发明专利]生产光致发光颗粒的方法在审
申请号: | 201780041220.0 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN109476992A | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | 阿布德海·阿波莱奇;吉纳维耶夫·查迪朗;莱奇德·麦修 | 申请(专利权)人: | 艾利迪公司;克莱蒙奥弗涅大学;国家科学研究中心;辛格玛克勒蒙特公立大学 |
主分类号: | C09K11/77 | 分类号: | C09K11/77;B82Y40/00;C09K11/08;C09K11/02 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 刘明海;胡彬 |
地址: | 法国格*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分散体 光致发光材料 范围颗粒 非水溶剂 光致发光 纳米颗粒 表面剂 高压釜 回收 制造 生产 | ||
1.一种制造光致发光材料的纳米颗粒的方法,其包括以下相继步骤:
a)形成所述光致发光材料的纳米范围颗粒(32);
b)在非水溶剂中形成含有所述颗粒的分散体,所述分散体还含有至少一种表面剂;
c)将所述分散体置于压力在2MPa至100MPa范围内的高压釜中;和
d)回收所述颗粒。
2.如权利要求1所述的方法,其中在步骤b)之前,通过二氧化硅前体对所述纳米范围颗粒(32)进行表面处理。
3.如权利要求1或2所述的方法,其中所述表面剂为具有如下化学式的有机官能化合物:
RnSiX4-n
其中n等于1、2或3,X表示可水解的基团,且R是不可水解的有机基团。
4.如权利要求3所述的方法,其中X是烷氧基、卤素基团或胺基。
5.如权利要求1或2所述的方法,其中所述表面剂是具有如下化学式的化合物:
R-Y-R'
其中Y是任选地包含至少一个氧原子的烃链,R和R'是硫醇(-SH)、羧酸(-COOH)、醇(-OH)、胺(-NH2)、丙烯酸酯型的化学基团或非反应性官能团。
6.如权利要求1至5中任一项所述的方法,其中所述非水溶剂是醇。
7.如权利要求1至6中任一项所述的方法,其中步骤a)包括:研磨平均尺寸大于1μm的所述光致发光材料的颗粒以获得所述纳米范围颗粒(32)。
8.如权利要求7所述的方法,其中平均尺寸大于1μm的所述光致发光材料的颗粒在湿环境中研磨。
9.如权利要求7所述的方法,其中平均尺寸大于1μm的所述光致发光材料的颗粒在不同于步骤b)中使用的所述非水溶剂的溶剂中研磨。
10.如权利要求1至9中任一项所述的方法,其中步骤c)的持续时间在30分钟至48小时的范围内。
11.如权利要求1至9中任一项所述的方法,其中所述高压釜中的温度在25℃至300℃的范围内。
12.如权利要求1至11中任一项所述的方法,其中所述光致发光材料是铝酸盐、硅酸盐、氮化物、氮氧化物、氟化物或硫化物。
13.如权利要求12所述的方法,其中所述光致发光材料主要包括钇铝氧化物或镥铝氧化物,其还包含以下元素中的至少一种:铈、铕、铬、钕、铽、镝、镨或钆。
14.如权利要求1-13中任一项所述的方法,其还包括:在步骤c)之前,在用于形成所述纳米范围颗粒的全部或部分前体存在的情况下在高压釜中对所述纳米范围颗粒进行混合和处理的步骤。
15.如权利要求1-14中任一项所述的方法,其还包括:在步骤c)之前,将所述纳米范围颗粒与至少一种光致发光物质(36;37)混合的步骤。
16.如权利要求15所述的方法,其中所述光致发光物质是量子点(37)。
17.如权利要求1-16中任一项所述的方法,其中所述纳米范围颗粒(32)是量子点。
18.如权利要求1-17中任一项所述的方法,其包括:形成所述纳米范围颗粒与抗蚀剂组合物的稳定混合物。
19.如权利要求18所述的方法,其中所述抗蚀剂是丙烯酸酯型。
20.如权利要求18或19所述的方法,其中所述抗蚀剂组合物还包含选自粘合剂、溶剂、漫射颗粒光引发剂中的至少一种组分。
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