[发明专利]氟碳化合物剥离涂层

说明书

本发明公开了一种在基底的主表面上的有机氟涂层，其中所述有机氟涂层具有约5原子％至约15原子％的氧和约30原子％至约50原子％的氟的表面组成。

背景技术

剥离涂层是施加到基底的主表面上的低粘附性涂层。应选择剥离涂层的组成，使得施加在其上的特定功能性涂层或层与剥离涂层具有有限的化学相互作用并且非常弱地粘附在其上。当向功能性涂层施加小的剥离力时，功能性涂层应剥离开并容易地与剥离涂层分离，而不会在界面处留下大量的功能性涂层残留物。剥离涂层应与功能性涂层在化学上充分不相容，使得剥离涂层不会从基底表面分层并在功能性涂层分离和剥离开时转移到功能性涂层，即使在功能性涂层与剥离涂层接触延长时间段后也是如此。

含氟聚合物具有对各种功能性涂层的化学侵蚀的良好抗性，并已广泛用作剥离涂层。可以使用多种方法将含氟聚合物剥离涂层涂覆在基底表面上，所述方法包括例如湿化学涂覆、蒸汽涂覆和等离子体沉积。

发明内容

在一个方面，本公开涉及一种有机氟剥离涂层，其表面组成为约5原子％(at％)至约15at％的氧和约30at％至约50at％的氟。在一些实施方案中，有机氟剥离涂层具有包含氟代醚物质的表面组成，所述氟代醚物质具有约0.25at％至约2.5at％的以氟代醚形式的氧。

在另一方面，本公开涉及一种有机氟薄膜，其包含约0.25at％至约2.5at％的以氟代醚形式的氧。

在另一方面，本公开涉及一种制品，其包括具有主表面的聚合物膜，其中所述聚合物膜的所述主表面的至少一部分包括具有约10个结构/mm²至约10,000个结构/mm²的密度的凸出或凹陷结构，和所述结构上的有机氟涂层，其中所述涂层包括氟代醚物质和约5at％至约15at％的氧和约30at％至约50at％的氟的表面组成。

在另一方面，本公开涉及在基底的主表面上的含氟聚合物涂层，其中所述涂层包含共聚重复单元，该共聚重复单元衍生自具有式C_xF_y的氟碳化合物和具有式C_xF_yO_z的氧氟碳化合物中的至少一种，其中x、y和z是非零正整数，其中x＝1-6，y＝4-14，并且z＝1，并且其中选择x、y和z的值使得所述涂层包含约5原子％至约15at％的氧和约30at％至约50at％的氟。

在另一方面，本公开涉及在基底的主表面上的含氟聚合物涂层，其中所述涂层衍生自具有式C_xF_y的氟碳化合物(其中x＝1-6且y＝4-14)，该氟碳化合物与足量的氧反应以提供具有约5at％至约15at％的氧和约30at％至约50at％的氟的共聚物。

在另一方面，本公开涉及一种制造涂层的方法，包括：将气态氟碳化合物反应物引入反应室中；在等离子体和足够的氧气的存在下使气态氟碳化合物反应物反应以在基底的主表面上形成有机氟涂层，其中所述有机氟涂层具有小于约500 nm的厚度，并且其中所述涂层包含约0.25at％至约2.5at％的以氟代醚形式的氧。

在另一方面，本公开涉及一种制备涂层的方法，包括：将至少一种气态氟碳化合物和含氧气体引入具有等离子体发生装置和目标基底的反应室中，其中所述氟化合物和含氧气体以相对量被引入所述反应室中，所述相对量足以在等离子体的存在下在所述基底上形成具有氟代醚物质的含氟碳化合物的涂层，并且其中所述有机氟膜具有小于约500 nm的厚度并且具有包含约5at％至约15at％的氧和约30at％至约50at％的氟的表面组成。

在另一方面，本公开涉及一种制品，其包括在聚合物膜基底的主表面上的有机氟剥离涂层，其中所述有机氟涂层具有约5at％至约15at％的氧和约30at％至约50at％的氟的表面组成；和所述剥离涂层上的阻挡功能性涂层，其中所述阻挡功能性涂层包括在所述剥离涂层上的聚合物层和在所述聚合物层上的金属氧化物层。