[发明专利]相位差膜在审
申请号: | 201780040410.0 | 申请日: | 2017-06-05 |
公开(公告)号: | CN109416426A | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 幡中伸行;葛西辰昌;松野健次;白石贵志 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;C09K19/38;G02F1/13363;G09F9/00;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/02 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;唐峥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 相位差层 式( 2 ) 相位差膜 光学特性 式( 1 ) 波长 抑制性 漏光 式中 | ||
1.相位差膜,其具有至少2层相位差层,具有第一相位差层和第二相位差层,其中,
第一相位差层具有式(1)、式(3)及式(4)表示的光学特性,
第二相位差层具有式(2)、式(3)及式(4)表示的光学特性,
所述相位差膜具有式(2)、式(3)及式(4)表示的光学特性,
200nm<Re(550)<320nm (1)
100nm<Re(550)<160nm (2)
Re(450)/Re(550)≤1.00 (3)
1.00≤Re(650)/Re(550) (4)
式中,Re(450)表示波长450nm处的面内相位差值,Re(550)表示波长550nm处的面内相位差值,Re(650)表示波长650nm处的面内相位差值。
2.如权利要求1所述的相位差膜,所述相位差膜还具有式(5)表示的第三相位差层,
nx≈ny<nz (5)
nx表示相位差层形成的折射率椭球中的与膜平面平行的方向的主折射率,ny表示相位差层形成的折射率椭球中的与膜平面平行、且与所述nx方向正交的方向的折射率,nz表示相位差层形成的折射率椭球中的与膜平面垂直的方向的折射率。
3.如权利要求1或2所述的相位差膜,其具有式(6)及(7)表示的光学特性,
-2.0≤a*≤0.5 (6)
-0.5≤b*≤5.0 (7)
式中,a*及b*表示L*a*b*色度系统中的色度坐标。
4.如权利要求1~3中任一项所述的相位差膜,其中,第一相位差层是通过使1种以上聚合性液晶聚合而形成的涂覆层。
5.如权利要求1~4中任一项所述的相位差膜,其中,第二相位差层是通过使1种以上聚合性液晶聚合而形成的涂覆层。
6.如权利要求1~5中任一项所述的相位差膜,其中,第一相位差层的厚度为5μm以下。
7.如权利要求1~6中任一项所述的相位差膜,其中,第二相位差层的厚度为5μm以下。
8.如权利要求1~7中任一项所述的相位差膜,其中,第一相位差层及第二相位差层的厚度分别为5μm以下。
9.如权利要求1~8中任一项所述的相位差膜,其中,以隔着取向膜或不隔着取向膜的方式在基材上形成有第一相位差层,以隔着取向膜或不隔着取向膜的方式在所述第一相位差层上形成有第二相位差层。
10.如权利要求1~9中任一项所述的相位差膜,其中,以隔着取向膜或不隔着取向膜的方式在基材上形成有第二相位差层,以隔着取向膜或不隔着取向膜的方式在所述第二相位差层上形成有第一相位差层。
11.如权利要求1~9中任一项所述的相位差膜,其中,以隔着取向膜或不隔着取向膜的方式在基材的一个面上形成有第一相位差层,以隔着取向膜或不隔着取向膜的方式在基材的另一个面上形成有第二相位差层。
12.如权利要求1~9中任一项所述的相位差膜,其中,基材具有第一相位差层的光学特性,以隔着取向膜或不隔着取向膜的方式在所述基材上形成有第二相位差层。
13.如权利要求1~9中任一项所述的相位差膜,其中,基材具有第二相位差层的光学特性,以隔着取向膜或不隔着取向膜的方式在所述基材上形成有第一相位差层。
14.如权利要求1~9中任一项所述的相位差膜,其中,第一相位差层与第二相位差层的光轴所成的角度实质上为60°。
15.如权利要求7~12中任一项所述的相位差膜,其中,在第一相位差层与第二相位差层之间具有保护层。
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