[发明专利]用于清洁真空腔室的系统、用于清洁真空腔室的方法以及用于清洁真空腔室的压缩机的用途

权利要求书

1.一种用于清洁真空腔室(110)的系统(100,200,300,400,500)，所述系统包括：

所述真空腔室，具有入口(111)和出口(112)；和

压缩机(120)，具有连接到所述出口(112)的入口侧(121)和连接到所述入口(111)的出口侧(122)。

2.如权利要求1所述的系统，所述系统进一步包括压力增大单元(230)。

3.如权利要求2所述的系统，所述压力增大单元是选自由刚性管道、风门和上述组合所组成的组。

4.如前述权利要求中任一项所述的系统，所述系统进一步包括净化气体入口(341)、净化气体出口(342)和泵送单元(340)。

5.如前述权利要求中任一项所述的系统，所述系统进一步包括压力调整单元(450)。

6.如前述权利要求中任一项所述的系统，所述系统进一步包括等离子体源(560)。

7.如前述权利要求中任一项所述的系统，所述系统被配置成刺激在所述真空腔室内的表面上的材料的解吸附。

8.如权利要求7所述的系统，所述材料是选自由烃、水和上述物质组合所组成的组。

9.如前述权利要求中任一项所述的系统，所述压缩机是选自由无接触压缩机、无油压缩机、无油脂压缩机、磁力驱动压缩机、磁悬浮轴承压缩机和上述压缩机任何组合所组成的组。

10.如前述权利要求中任一项所述的系统，所述压缩机具有15千瓦至20千瓦的电功率以及/或5千瓦至10千瓦的有效加热功率。

11.如前述权利要求中任一项所述的系统，所述压缩机被配置成压缩所述真空腔室中的净化气体，所述净化气体是选自由干燥空气、N₂、Ar、O₂、O₂/N₂、O₂/干燥空气、O₃、ROS和上述物质的任何组合所组成的组。

12.一种用于清洁真空腔室的方法，所述方法包括：

压缩净化气体；和

通过压缩的所述净化气体来加热所述真空腔室。

13.如权利要求12所述的方法，所述方法进一步包括：

从所述真空腔室至少部分地移除压缩的所述净化气体；和

将清洁的净化气体引入所述真空腔室中同时在所述真空腔室中保持100毫巴(1.0*10⁴帕)至300(3.0*10⁴帕)的净化压力。

14.如权利要求12至13中任一项所述的方法，所述方法进一步包括：

在所述真空腔室中为0.1毫巴(10帕)至1毫巴(100帕)的等离子体处理压力下将选自由O₃、ROS和上述物质组合所组成的组的等离子体引入所述真空腔室中。

15.如权利要求12至14中任一项所述的方法，所述净化气体和所述清洁的净化气体是单独地选自由干燥空气、N₂、Ar、O₂、O₂/N₂、O₂/干燥空气、O₃、ROS和上述物质任何组合所组成的组。

16.用于清洁真空腔室的压缩机的一种用途。

17.如权利要求16所述的用途，其中所述压缩机是选自由无接触压缩机、无油压缩机、无油脂压缩机、磁力驱动压缩机、磁悬浮轴承压缩机和上述压缩机的任何组合所组成的组。