[发明专利]研削液有效
申请号: | 201780033332.1 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN109312212B | 公开(公告)日: | 2022-01-04 |
发明(设计)人: | 井上裕昭;竹村幸二;笹岛启佑;西藤和夫;田浦歳和 | 申请(专利权)人: | 创技股份有限公司;阪东化学株式会社 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14;H01L21/304 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马爽;臧建明 |
地址: | 日本神奈川*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研削液 | ||
本发明的目的在于提供一种在抑制含有研磨粒时的分散性降低的同时离心分离的回收效率相对较高的研削液。本发明的研削液中,研削液的所有溶媒中的醇系溶媒及醚系溶媒的合计含量为95质量%以上、100质量%以下,所述醚系溶媒相对于所述醇系溶媒的质量比为1倍以上、5倍以下。25℃下的所述醚系溶媒的粘度低于所述醇系溶媒的粘度,所述醚系溶媒与所述醇系溶媒的粘度差优选为15mPa·s以上、20mPa·s以下。
技术领域
本发明涉及一种研削液。
背景技术
近年来,作为硬磁盘(hard disk)等精密电子机器、发光二极管(light emittingdiode,LED)、功率元件(power device)等的基板,对玻璃、蓝宝石(saphire)、碳化硅等难加工基板的需求增加。
在此种难加工基板的研磨中通常使用固定研磨粒的研磨垫。使用所述固定研磨粒的研磨垫的加工例如可使用市售的双面研磨机来进行。具体而言,将由载体保持的基板夹入固定有研磨垫的上下压盘之间,使基板与上下压盘进行相对移动,由此对基板的两面同时进行研削。此时,为了将基板的加工面冷却或为了促进加工而向基板的两面供给研削液。
作为所述研削液,已知有例如含有氧化铝粒子或氧化硅粒子等研磨粒的浆料状研削液。为了使所述研磨粒在研削时有效地有助于研磨,研磨粒在研削液中需要处于分散状态。因此,就所述研磨粒的分散性的观点而言,作为研削液的溶媒,通常使用乙二醇等醇系溶媒。
为了减少制造成本或减少环境负荷而对所述研削液进行再利用。在所述研磨中,会自基板产生研削碎屑并混入至研削液中,因此,若重复进行研削液的再利用,则研削液中所含的研削碎屑的量将增加。若如上所述那样研削液中所含的研削碎屑的量增加,则容易造成基板的研削效率降低或对基板的损伤。因此,为了进行对研削液的再利用,需要自使用后的研削液中分离回收研削碎屑。作为所述分离回收方法,可列举离心分离、通过过滤器的分离、通过强酸或强碱的洗涤分离等方法。这些中,对于通过过滤器的分离而言,需要高性能的过滤器,因此过滤器的成本高。另外,对于使用强酸或强碱的洗涤分离而言,废液的处理成本及环境负荷大。因此,研削碎屑的分离中通常使用离心分离。
在对所述醇系溶媒的研削液进行离心分离的情况下,尤其难以回收粒径为100nm以下的小研削碎屑,研削液的回收效率容易降低。作为提高所述回收效率的方法,例如有通过在进行离心分离后进一步进行膜分离而回收粒径小的研削碎屑的方法(参照日本专利特开2010-221337号公报)。然而,若如上所述那样为了提高回收效率而增加离心分离以外的分离步骤,则制造设备成本增加或用于进行研削液再利用的工时增加。因此,要求提高通过离心分离的对研削液的回收效率。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开2010-221337号公报
发明内容
发明所要解决的问题
本发明是鉴于这些不良状况而成,本发明的目的在于提供一种在抑制含有研磨粒时的分散性降低的同时离心分离的回收效率相对较高的研削液。
解决问题的技术手段
本发明的发明人对通过离心分离的研削液的回收效率进行了努力研究,结果发现,通过在醇系溶媒中添加规定量的醚系溶媒来作为研削液的溶媒,即便是粒径为100nm以下的小研削碎屑也可通过离心分离而自研削液中回收,从而完成了本发明。
即,为解决所述课题而完成的发明为一种研削液,其用于基板材料的研削加工,且含有醇系溶媒及醚系溶媒,研削液的所有溶媒中的所述醇系溶媒及醚系溶媒的合计含量为95质量%以上、100质量%以下,所述醚系溶媒相对于所述醇系溶媒的质量比为1倍以上、5倍以下。
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