[发明专利]陶瓷生片制造用脱模膜有效
| 申请号: | 201780028362.3 | 申请日: | 2017-05-08 |
| 公开(公告)号: | CN109070383B | 公开(公告)日: | 2019-07-16 |
| 发明(设计)人: | 柴田悠介;吉野贤二;堀川谅 | 申请(专利权)人: | 东洋纺株式会社 |
| 主分类号: | B28B1/30 | 分类号: | B28B1/30;B32B27/00;B32B27/36;C09D201/00 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 陶瓷生片 涂布层 脱模膜 基材 聚酯薄膜 制造 粗糙度曲线要素 针孔 平均粗糙度 区域表面 薄膜化 突起 卷取 脱模 | ||
[课题]提供:即使将陶瓷生片薄膜化的情况下也能兼顾良好的卷取性和防止针孔、部分的厚度不均等的优异的陶瓷生片制造用脱模膜。[解决方案]一种陶瓷生片制造用脱模膜,其以实质上不含有颗粒的聚酯薄膜为基材,在前述基材的一个表面上具有脱模涂布层、且在另一个表面上具有含有颗粒的易滑涂布层,易滑涂布层的区域表面平均粗糙度(Sa)为1nm以上且25nm以下,最大突起高度(P)为60nm以上且500nm以下,且轮廓单元的平均宽度(RSm)为10μm以下。
技术领域
本发明涉及陶瓷生片制造用脱模膜。更详细而言,涉及即使将陶瓷生片薄膜化的情况下也能兼顾良好的卷取性和防止针孔、部分的厚度不均等的陶瓷生片制造用脱模膜。
背景技术
以往公开了如下技术:通过使基材薄膜的跟设有脱模剂层的一面相反的一面(背面)的表面粗糙度较粗糙,从而消除以卷绕陶瓷生片制造用脱模膜的状态下被保管时陶瓷生片制造用脱模膜的表里粘附(粘连)等不良情况(例如参照专利文献1)。然而,上述现有技术存在突起大而产生针孔、部分的厚度不均的问题。
因此,公开了如下技术:为了降低突起的高度而通过将背面的突起用涂布层掩埋,从而想要防止在陶瓷生片中产生针孔、部分的厚度不均(例如参照专利文献2)。然而,根据上述现有技术,虽然突起高度变低,但是突起密度低,因此,存在如下问题:对突起施加的压力大、使陶瓷生片进一步薄膜化时导致针孔的发生。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2003-203822号公报
专利文献2:日本特开2014-144636号公报
发明内容
本发明是以上述现有技术的课题为背景而作出的。即,本发明的目的在于,提供:即使将陶瓷生片薄膜化的情况下也能兼顾良好的卷取性和防止针孔、部分的厚度不均等的优异的陶瓷生片制造用脱模膜。
本发明人为了达成上述目的进行了深入研究,结果至此完成了本发明。即,本发明由以下特征构成。
1.一种陶瓷生片制造用脱模膜,其特征在于,以实质上不含有颗粒的聚酯薄膜为基材,在前述基材的一个表面上具有脱模涂布层、且在另一个表面上具有含有颗粒的易滑涂布层,易滑涂布层的区域表面平均粗糙度(Sa)为1nm以上且25nm以下,最大突起高度(P)为60nm以上且500nm以下,且轮廓单元的平均宽度(RSm)为10μm以下。
2.根据上述第1所述的陶瓷生片制造用脱模膜,其特征在于,脱模涂布层的区域表面平均粗糙度(Sa)为5nm以下,且最大突起高度(P)为30nm以下。
3.根据上述第1或第2所述的陶瓷生片制造用脱模膜,其特征在于,易滑涂布层的厚度为0.001μm以上且2μm以下。
4.一种陶瓷生片的制造方法,其特征在于,使用上述第1~第3中任一项所述的陶瓷生片制造用脱模膜。
5.根据上述第4所述的陶瓷生片的制造方法,其特征在于,制造的陶瓷生片的厚度为0.2μm以上且2μm以下。
6.一种陶瓷电容器的制造方法,其特征在于,采用上述第4或第5所述的陶瓷生片的制造方法。
根据本发明,可以提供:即使将陶瓷生片薄膜化的情况下也能兼顾良好的卷取性和防止针孔、部分的厚度不均等的陶瓷生片制造用脱模膜。
具体实施方式
以下,对本发明进行详细说明。
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