[发明专利]深紫外发光元件有效
| 申请号: | 201780023379.X | 申请日: | 2017-04-05 |
| 公开(公告)号: | CN109314157B | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
| 发明(设计)人: | 酒井遥人;丹羽纪隆;稻津哲彦;西里尔·佩罗 | 申请(专利权)人: | 日机装株式会社 |
| 主分类号: | H01L33/24 | 分类号: | H01L33/24;H01L33/32 |
| 代理公司: | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人: | 郑立;应风晔 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 深紫 发光 元件 | ||
1.一种深紫外发光元件,其特征在于,包括:
光取出面,
n型半导体层,设置在上述光取出面上,
n侧电极,设置在上述n型半导体层上的一部分区域,
活性层,设置在上述n型半导体层上的与上述一部区域不同的区域,带隙为3.4eV以上,以及
p型半导体层,设置在上述活性层上;
保护层,覆盖上述活性层的侧面,并且针对从上述活性层发出的深紫外光透明;
上述活性层发出的深紫外光从上述光取出面输出到外部;
上述活性层的侧面相对于上述n型半导体层与上述活性层的界面倾斜,其倾斜角为15度以上50度以下,
上述n型半导体层的侧面在从上述n型半导体层与上述n侧电极的界面到上述光取出面的范围内相对于上述n型半导体层与上述活性层的界面垂直。
2.如权利要求1所述的深紫外发光元件,其特征在于,
具备蓝宝石基板,该蓝宝石基板具有上述光取出面;
上述n型半导体层、上述活性层以及上述p型半导体层是AlGaN类的半导体层。
3.如权利要求1或2所述的深紫外发光元件,其特征在于,
所述保护层包含二氧化硅(SiO2),氧氮化硅(SiON),氮化硅(SiN),氧化铝(Al2O3)或氮化铝(AlN)。
4.如权利要求1或2所述的深紫外发光元件,其特征在于,
上述活性层的侧面的倾斜角θa使用上述活性层的折射率n1而满足下式的关系。
5.如权利要求1或2所述的深紫外发光元件,其特征在于,
上述活性层的侧面的倾斜角是20度以上40度以下。
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