[发明专利]深紫外发光元件有效

专利信息
申请号: 201780023379.X 申请日: 2017-04-05
公开(公告)号: CN109314157B 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 酒井遥人;丹羽纪隆;稻津哲彦;西里尔·佩罗 申请(专利权)人: 日机装株式会社
主分类号: H01L33/24 分类号: H01L33/24;H01L33/32
代理公司: 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 代理人: 郑立;应风晔
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 深紫 发光 元件
【权利要求书】:

1.一种深紫外发光元件,其特征在于,包括:

光取出面,

n型半导体层,设置在上述光取出面上,

n侧电极,设置在上述n型半导体层上的一部分区域,

活性层,设置在上述n型半导体层上的与上述一部区域不同的区域,带隙为3.4eV以上,以及

p型半导体层,设置在上述活性层上;

保护层,覆盖上述活性层的侧面,并且针对从上述活性层发出的深紫外光透明;

上述活性层发出的深紫外光从上述光取出面输出到外部;

上述活性层的侧面相对于上述n型半导体层与上述活性层的界面倾斜,其倾斜角为15度以上50度以下,

上述n型半导体层的侧面在从上述n型半导体层与上述n侧电极的界面到上述光取出面的范围内相对于上述n型半导体层与上述活性层的界面垂直。

2.如权利要求1所述的深紫外发光元件,其特征在于,

具备蓝宝石基板,该蓝宝石基板具有上述光取出面;

上述n型半导体层、上述活性层以及上述p型半导体层是AlGaN类的半导体层。

3.如权利要求1或2所述的深紫外发光元件,其特征在于,

所述保护层包含二氧化硅(SiO2),氧氮化硅(SiON),氮化硅(SiN),氧化铝(Al2O3)或氮化铝(AlN)。

4.如权利要求1或2所述的深紫外发光元件,其特征在于,

上述活性层的侧面的倾斜角θa使用上述活性层的折射率n1而满足下式的关系。

5.如权利要求1或2所述的深紫外发光元件,其特征在于,

上述活性层的侧面的倾斜角是20度以上40度以下。

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