[发明专利]用于适用于CIP的成形和填充站的注射装置有效

专利信息
申请号: 201780010851.6 申请日: 2017-02-10
公开(公告)号: CN108698302B 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 丹尼斯·吉尔特;米歇尔·奥拉里;罗伯特·佐尼;马斯莫·纳斯班尼 申请(专利权)人: 帝斯克玛股份有限公司
主分类号: B29C49/46 分类号: B29C49/46;B29C49/42;B29C49/06
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;王艳春
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 适用于 cip 成形 填充 注射 装置
【权利要求书】:

1.一种用于成形和填充站的注射装置(1),所述成形和填充站用于将预成型件(5)成形为容器,并使用加压液体(10)填充所述容器,所述注射装置(1)包括:

-至少一个注射头(25),用于将所述加压液体(10)注射到所述预成型件(5)中,以及

-至少一个活塞装置(20、120),具有活塞体(43)和活塞头(45),所述活塞头(45)布置成沿着活塞轴线(A)在所述活塞体(43)内往复运动,所述活塞头以液密方式与所述活塞体的密封部分协作,以便流体隔离所述活塞装置的内腔(47),所述活塞体(43)具有入口管道(39)和至少一个出口管道(41、41A、41B),所述入口管道(39)旨在与液体源(15)流体连通,以允许液体进入所述内腔(47)中,所述至少一个出口管道使所述内腔与所述注射头流体连通,所述活塞体(43)包括凹槽部分(60),在所述凹槽部分(60)中所述活塞头(45)不与所述活塞体(43)液密接触,使得液体可从所述内腔流到所述活塞体的、在所述活塞头(45)的与所述内腔(47)相对的侧部上延伸的部分,所述注射装置布置成用于在原位清洁配置中将所述活塞头(45)驱动到所述凹槽部分(60)中,

其特征在于,所述凹槽部分(60)在所述内腔内在所述密封部分的、在注射方向上延伸的轴向侧中延伸。

2.根据权利要求1所述的注射装置,其中所述凹槽部分(60)是环形沟槽,所述环形沟槽围绕所述内腔(47)延伸,并且局部扩大垂直于所述活塞轴线(A)测量的所述内腔的径向尺寸。

3.根据权利要求1或2所述的注射装置,其中沿着所述活塞轴线(A)测量的、所述活塞头(45)的周边的高度低于沿着所述活塞轴线(A)测量的、所述凹槽部分(60)的高度。

4.根据权利要求1所述的注射装置,其中所述活塞头(45)包括密封垫圈(53),所述密封垫圈(53)确保所述活塞头(45)与所述密封部分之间的液密接触,所述密封垫圈(53)包括朝向所述内腔(47)定向的唇部(57),使得当所述活塞头(45)从所述凹槽部分(60)移回所述密封部分时,所述唇部可在不翻转的情况下抵靠所述密封部分应用。

5.根据权利要求1所述的注射装置,其中所述入口管道(39)和所述出口管道(41、41A、41B)在所述内腔的壁中分别限定入口端口(58)和出口端口(63A、63B)。

6.根据权利要求5所述的注射装置,其中所述出口端口(63A、63B)通向所述凹槽部分(60)。

7.根据权利要求5或6所述的注射装置,其中所述活塞头(45)设计成在往复运动期间相对于所述活塞体(43)占据极低密封位置,当所述活塞头(45)处于所述极低密封位置时,所述内腔(47)具有最小的容积,其中所述入口端口(58)或所述出口端口中的至少一个在所述内腔的最下区域处打开,以及当所述活塞头(45)处于所述极低密封位置时,所述入口端口(58)或出口端口(63A、63B)中的至少另一个位于所述内腔(47)的最上区域(4)处。

8.根据权利要求7所述的注射装置,其中当所述活塞头(45)处于所述极低密封位置时,至少一个出口端口(63A、63B)位于所述内腔(47)的最上区域(4)处。

9.根据权利要求5或6所述的注射装置,其中所述活塞体(43)包括至少两个出口管道(41A、41B),所述出口管道(41A、41B)使所述内腔(47)与所述注射头(25)流体连通,所述出口管道(41A、41B)的每个出口端口(63A、63B)均以出口端口中心为中心,其中所有所述出口端口中心均在距离所述活塞轴线(A)相同的距离处在所述内腔(47)的相同径向平面中延伸,并且以规则的方式围绕所述活塞轴线(A)成角度地布置,由两个连续的出口端口(63A、63B)与所述活塞轴线(A)形成的角度是恒定的。

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