[发明专利]提高后处理性能的基板形状、几何形状、定位和/或单元格密度

权利要求书

1.一种后处理部件，其特征在于，包括：

具有穿过其中形成的多个通道的主体，其中所述主体具有非圆形横截面。

2.根据权利要求1所述的后处理部件，其特征在于，所述非圆形横截面是椭圆形、正方形、矩形、蛋形、五边形、六边形、七边形、八边形或星形中的一种。

3.一种后处理部件，其特征在于，包括：

一种具有穿过其中形成多个通道的主体，其中所述主体具有非圆形的入口开口。

4.根据权利要求1所述的后处理部件，其特征在于，所述非圆形入口开口是椭圆形、正方形、矩形、蛋形、五边形、六边形、七边形、八边形或星形中的一种。

5.一种后处理部件，其特征在于，包括：

具有穿过其中形成的多个通道的主体，其中所述主体具有可变面。

6.根据权利要求1所述的后处理部件，其特征在于，所述可变面是圆形、椭圆形、环形、成角度、弯曲、圆顶形、凸形或凹形、金字塔形、圆锥形、正弦形中的一种。

7.一种径向后处理部件，其特征在于，包括：

具有径向外部和径向内部的主体，所述主体包括从径向外部到径向内部穿过其形成的通道，

其中所述通道具有包括以下形状中的一个或多个的通道几何形状：

弯曲的形状，

S形，

之字形状，

涡轮形状，

切线形状，

有角度的形状，

螺旋形状，或

不均匀形状。

8.根据权利要求7所述的径向后处理部件，其特征在于，所述通道几何形状具有不均匀的形状，并且其中所述不均匀形状具有第一部分和第二部分，其中所述第一部分包括：

直的形状，

弯曲的形状，

S形，

之字形状，

涡轮形状，

切线形状，

有角度的形状，或

螺旋形状。

9.根据权利要求8所述的径向后处理部件，其特征在于，所述第二部分包括：

直的形状，

弯曲的形状，

S形状，

之字形状，

涡轮形状，

切线形状，

有角度的形状，或

螺旋形状。

10.根据权利要求7所述的径向后处理部件，其特征在于，所述通道包括与在所述主体中形成的一个或多个其他通道的一个或多个交叉点。

11.根据权利要求7所述的径向后处理部件，其特征在于，所述主体是催化剂的基板。

12.根据权利要求7所述的径向后处理部件，其特征在于，所述主体是过滤器的基板。

13.根据权利要求7所述的径向后处理部件，其特征在于，还包括上游端，其中所述上游端联接到后处理系统。

14.根据权利要求7所述的径向后处理部件，其特征在于，还包括下游端，其中所述下游端联接到后处理系统。

15.一种后处理装置，其特征在于，包括：

主体；以及

在所述主体内形成的多个通道；

其中，所述多个通道中的第一通道具有第一有效通道尺寸，以及所述多个通道中的第二通道具有第二有效通道尺寸。

16.根据权利要求15所述的后处理装置，其特征在于，所述第一通道和所述第二通道位于所述主体中的不同轴向位置处。

17.根据权利要求15所述的后处理装置，其特征在于，所述第一通道和所述第二通道位于所述主体中的不同横向位置处。