[实用新型]一种键盘装置有效
申请号: | 201721919122.6 | 申请日: | 2017-12-29 |
公开(公告)号: | CN207924628U | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 吴翔 | 申请(专利权)人: | 苏州达方电子有限公司 |
主分类号: | G06F3/02 | 分类号: | G06F3/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215011 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 按键键帽 键盘装置 框架部 键区 壳体 凸耳 凸柱 下沉 按压 收纳 输入操作 键帽组 容置部 键帽 侧向 伸出 本实用新型 壳体上表面 按键开口 同向移动 抵接部 按键 抵接 抬升 误触 | ||
1.一种键盘装置,其特征在于,包含,
壳体,包括一容置部;
键帽组,包括至少一个键帽,每一该键帽侧向伸出至少两个凸耳;
键区框架部,该键区框架部包括:
按键开口,该按键开口从该容置部中露出,该按键开口用于容置对应的该键帽;
凸耳抵接部,用于抵接每一该键帽的该凸耳;
至少两个第一凸柱,伸出该键区框架部的第一侧;以及
至少两个第二凸柱,伸出该键区框架部的第二侧,其中该第一侧与该第二侧位置相对;
第一连杆,该第一连杆包括:至少两个第一导槽,每一该第一导槽一一对应于一该第一凸柱;以及,
第二连杆,该第二连杆包括:至少两个第二导槽,每一该第二导槽一一对应于一该第二凸柱;
其中,该第一连杆沿该第一侧、该第二连杆沿该第二侧同向移动时,至少一个该第一导槽驱动对应的该第一凸柱上升,且至少一个该第二导槽驱动对应的该第二凸柱上升,以驱使该键区框架部推动每一该键帽相对于该壳体上升;或者,至少一个该第一导槽驱动对应的该第一凸柱下降,且至少一个该第二导槽驱动对应的该第二凸柱下降,以驱使该键区框架部推动每一该键帽相对于该壳体下沉。
2.如权利要求1所述的键盘装置,其特征在于,
该第一导槽和该第二导槽分别包括至少一斜向导槽;该第一凸柱可于对应的该第一导槽中移动,该第二凸柱可于对应的该第二导槽中移动;
其中,当每一该第一凸柱位于对应的该第一导槽中的该斜向导槽的第一端,且每一该第二凸柱位于对应的该第二导槽中的该斜向导槽的第一端时,该键帽组突出于该壳体;当每一该第一凸柱位于对应的该第一导槽中的该斜向导槽的第二端,且每一该第二凸柱位于对应的该第二导槽中的该斜向导槽的第二端时,该键帽组与该壳体的上表面持平,或小幅度地高于或低于该上表面。
3.如权利要求1所述的键盘装置,其特征在于,
该键区框架部对应于每一该键帽的该凸耳设置一凹陷区作为该凸耳抵接部,以限制该凸耳的移动。
4.如权利要求1所述的键盘装置,其特征在于,
基于沿该第一侧分布的该按键开口的数量设置该第一凸柱的数量和位置,基于沿该第二侧分布的该按键开口的数量设置该第二凸柱的数量和位置。
5.如权利要求1所述的键盘装置,其特征在于,
该壳体还包括:
第一凹槽,该第一凹槽邻近该第一侧;该第一连杆可移动地固定于该第一凹槽,并可相对于该第一凹槽的延伸方向移动;以及
第二凹槽,该第二凹槽邻近该第二侧;该第二连杆可移动地固定于该第二凹槽,并可相对于该第二凹槽的延伸方向移动。
6.如权利要求5所述的键盘装置,其特征在于,该壳体还包括:
至少一个第三凹槽,每一该第一凸柱一一对应地设置于一该第三凹槽中;
至少一个第四凹槽,每一该第二凸柱一一对应地设置于一该第四凹槽中;以及,其中,该至少一个第三凹槽与该第一凹槽相连通,该至少一个第四凹槽与该第二凹槽相连通。
7.如权利要求1所述的键盘装置,其特征在于,
该第一凸柱或该第二凸柱的横截面为以下形状的任一种:圆形、椭圆形、圆角矩形。
8.如权利要求1所述的键盘装置,其特征在于,
该键盘装置还包括电路板,该电路板具有多个开关,每一该开关对应于一该键帽;其中,该键区框架部推动每一该键帽相对于该壳体下沉至该键帽组与该壳体的上表面持平,或小幅度地高于或低于该上表面时,该电路板的键开关处于关闭或禁能状态。
9.如权利要求1所述的键盘装置,其特征在于,
该键盘装置还包括控制单元,该控制单元控制该第一连杆和该第二连杆操作,以推动每一该键帽相对于该壳体上升或下沉。
10.如权利要求9所述的键盘装置,其特征在于,
该控制单元还控制与该键帽对应的电路板中的键开关开启、使能、关闭或禁能,其中相对于该键区框架部上升的该键帽对应的该键开关被开启或使能,相对于该键区框架部下沉的该键帽对应的该键开关被关闭或禁能。
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