[实用新型]一种提拉式镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种提拉式镀膜装置，包括支架、工作平台、镀膜池、提拉机构和旋转夹料机构，所述支架和镀膜池设于所述工作平台上，所述提拉机构和旋转夹料机构设于所述支架上，所述提拉机构和旋转夹料机构设置在所述镀膜池的上方，所述提拉机构用于带动所述旋转夹料机构上下移动，所述旋转夹料机构用于夹持基片并带动所述基片旋转。本实用新型在垂直方向运动的基础上，增加切向的运动，可以实现旋转提拉镀膜，保证整个提拉过程基片的薄膜层均匀，可以改善3D盖板不同曲率半径处膜层的均匀性。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其涉及一种提拉式镀膜装置。

背景技术

在液晶、等离子显示器或触摸屏的制备过程中，为了保护镀金后的基片，需要在基片的表面进行镀膜。由于在镀膜时，基片较大，且基片两面均需镀膜，此时常用的提拉式镀膜较为方便、快捷。提拉式镀膜就是将需要镀膜的基片匀速下降浸渍在溶液内静置一段时间，再匀速提拉出来，随着溶剂的挥发完全，基片表面会逐渐形成致密的薄膜。相比其他镀膜方法，提拉式镀膜均匀度高，薄膜颗粒尺寸均一，活性好，操作方便，不需要抽真空，具有制备形状复杂及大面积膜的能力，成本低，易于实现产业化。

为了满足用户更佳视觉和触觉体验的要求，从平面盖板发展到 2.5D结构盖板，现在又从2.5D盖板发展成3D盖板，而且3D盖板由原来的双边曲面发展成四周曲面。传统的提拉式镀膜装置，对于3D盖板，在不同的曲率半径处存在镀膜不均匀的问题，从而造成薄膜厚度不均匀。

因此，需要一种能够精确控制3D盖板薄膜厚度均匀性和表面质量、且工艺重复性和可靠性好的镀膜装置。

实用新型内容

为了解决上述现有技术的不足，本实用新型提供一种提拉式镀膜装置。

本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：

一种提拉式镀膜装置，包括支架、工作平台、镀膜池、提拉机构和旋转夹料机构，所述支架和镀膜池设于所述工作平台上，所述提拉机构和旋转夹料机构设于所述支架上，所述提拉机构和旋转夹料机构设置在所述镀膜池的上方，所述提拉机构用于带动所述旋转夹料机构上下移动，所述旋转夹料机构用于夹持基片并带动所述基片旋转。

进一步地，所述支架上还设有用于控制提拉机构及旋转夹料机构的控制装置，所述控制装置分别与所述提拉机构及旋转夹料机构电连接。

进一步地，所述提拉机构包括驱动机构以及伸缩架，所述伸缩架一端固定在所述支架上，所述伸缩架与所述驱动机构相连且在所述驱动机构的推动下上下移动。

进一步地，所述驱动机构为步进电机、气缸或液压缸。

进一步地，所述旋转夹料机构顶部与所述提拉机构相连，所述旋转夹料机构包括旋转台、样品夹具、和旋转驱动装置，所述样品夹具内夹持有基片，所述旋转台的下表面上设置有旋转轨道，所述样品夹具与所述旋转轨道滑动配合，能沿所述旋转轨道运动，所述旋转驱动装置用于驱动所述样品夹具沿着所述旋转轨道水平旋转。

进一步地，所述旋转轨道为圆形轨道。

进一步地，所述控制装置包括移动控制结构和旋转控制结构，所述移动控制机构与所述驱动机构连接并用于控制伸缩架的上下移动，所述旋转控制机构与所述旋转驱动装置连接并用于控制所述样品夹具上的基片在旋转轨道内的运动。

进一步地，所述样品夹具为夹口可调型夹具。

本实用新型具有如下有益效果：

在垂直方向运动的基础上，增加切向的运动，可以实现旋转提拉镀膜，保证整个提拉过程基片的薄膜层均匀，可以改善3D盖板不同曲率半径处膜层的均匀性。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；