[实用新型]光阻涂布槽清洗装置

说明书

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光阻涂布槽清洗装置。所述光阻涂布槽清洗装置，包括：轨道，环绕一光阻涂布槽的外周设置；第一清洗组件，与第二清洗组件先后进入所述轨道，且能够沿所述轨道运动，用于向光阻涂布槽的槽壁喷射清洗液；第二清洗组件，连接所述轨道且能够沿所述轨道运动，用于向所述槽壁喷射气体，以干燥位于所述槽壁上的清洗液。本实用新型提高了光阻涂布槽的清洗效率，节省了光阻涂布槽清洗的人力成本；同时减少了因清洗光阻涂布槽造成的停机时间，提高了晶圆的生产效率。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光阻涂布槽清洗装置。

背景技术

目前，半导体集成电路(IC)产业已经经历了指数式增长。IC材料和设计中的技术进步已经产生了数代IC，其中，每代IC都比前一代IC具有更小和更复杂的电路。在IC发展的过程中，功能密度(即每一芯片面积上互连器件的数量)已普遍增加，而几何尺寸(即使用制造工艺可以产生的最小部件)却已减小。除了IC部件变得更小和更复杂之外，在其上制造IC的晶圆变得越来越大，这就对晶圆的质量要求越来越高。

在晶圆的制造过程中，需要经过多步工艺，例如表面清洗、初次氧化、化学气相沉积镀膜、化学机械研磨、光刻、退火、离子注入等。其中，光刻技术是指在光照作用下，借助光阻(又名光致刻蚀剂、光刻胶)将掩膜版上的图形转移到晶圆上的技术。

在光刻过程中，光阻的涂布是至关重要的一步。一般来说，光阻的涂布是在光阻涂布槽中进行的。现有的光阻涂布槽包括转轴、承载台和槽壁，所述转轴连接所述承载台，所述承载台用于承载晶圆，所述侧壁环绕所述承载台设置。在光阻涂布槽中对晶圆进行光阻涂布的过程中，晶圆在所述转轴的带动下处于高速旋转的状态，一部分光阻在旋转过程中由于离心力的作用会自所述晶圆表面抛出，粘附于光阻涂布槽的槽壁上。当光阻在侧壁上的累积达到一定程度时，工作人员需要对所述侧壁进行清洗，以确保后续晶圆制程的顺利进行。但是，现有的侧壁清洗方法是依靠工作人员人工擦洗，这不仅增大了人力成本，而且人工清洗的时间较长，延长了光阻涂布槽的停机时间，降低了晶圆的生成效率。

因此，如何提高光阻涂布槽的清洗效率，节省人力成本，是目前亟待解决的技术问题。

发明内容

本实用新型提供一种光阻涂布槽清洗装置，用以解决现有的光阻涂布槽清洗效率低的问题，节省清洗光阻涂布槽的人力成本，同时提高晶圆的生产效率。

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种光阻涂布槽清洗装置，包括：轨道，环绕一光阻涂布槽的外周设置；第一清洗组件，与第二清洗组件先后进入所述轨道，且能够沿所述轨道运动，用于向光阻涂布槽的槽壁喷射清洗液；第二清洗组件，连接所述轨道且能够沿所述轨道运动，用于向所述槽壁喷射气体，以干燥位于所述槽壁上的清洗液。

优选的，所述第一清洗组件包括第一喷头、第一支架和第一连接部；所述第一喷头，连接所述第一支架，用于向所述槽壁喷射清洗液；所述第一连接部，连接所述轨道，用于将所述第一支架从第一复位位置转移至所述轨道；所述第一支架用于沿所述轨道运动。

优选的，所述第一喷头呈弧形，且所述第一喷头能够沿所述第一支架的轴向进行升降运动。

优选的，所述第二清洗组件包括第二喷头、第二支架和第二连接部；所述第二喷头，连接所述第二支架，用于向所述槽壁喷射气体，以干燥位于所述槽壁上的清洗液；所述第二连接部，连接所述轨道，用于将所述第二支架从第二复位位置转移至所述轨道；所述第二支架用于沿所述轨道运动。

优选的，所述第二喷头呈弧形，且所述第二喷头能够沿所述第二支架的轴向进行升降运动。

优选的，还包括控制器，所述控制器，同时连接所述第一清洗组件和所述第二清洗组件，用于控制所述第一清洗组件、所述第二清洗组件先后进入所述轨道。