[实用新型]硅片超声波清洗装置有效
申请号: | 201721786417.0 | 申请日: | 2017-12-19 |
公开(公告)号: | CN207770403U | 公开(公告)日: | 2018-08-28 |
发明(设计)人: | 胡平忠 | 申请(专利权)人: | 扬州宏祥光电科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12;B08B3/10;F26B21/00 |
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地址: | 225600 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗槽 加热器 水温控制器 热风机 水浸传感器 组合控制器 硅片 超声波清洗装置 超声波发生器 底部中心 吊篮 串联 串联电路 从上至下 电性连接 进水管道 排水管道 有效控制 左侧内壁 防护垫 下开启 磕碰 沥干 排水 缺水 安全 | ||
一种硅片超声波清洗装置,包括清洗槽、热风机、组合控制器、加热器以及超声波发生器,清洗槽为U形槽罐,清洗槽左侧内壁上方安装有热风机,热风机下方安装有组合控制器,组合控制器从上至下分别包括水浸传感器和水温控制器,水浸传感器串联在水温控制器的串联电路上,水温控制器与加热器电性连接,加热器下方左右安装有超声波发生器,清洗槽底部左侧连接有进水管道,底部中心连接有排水管道。清洗槽采用U形槽罐,底部中心排水更顺畅;热风机能够快速辅助沥干吊篮内的硅片;水浸传感器串联水温控制器,防止加热器在缺水情况下开启损坏,并有效控制水温;防护垫及保护块的设置能够有效避免吊篮磕碰造成损坏,使整体结构更加安全、耐用。
技术领域
本实用新型属于光伏配件生产领域,具体涉及一种硅片超声波清洗装置。
背景技术
在硅片的生产过程中,为了保证硅片表面的洁净,通常对切割完成的硅片进行超声波清洗,以去除残留的胶、浆料及硅粉,一般清洗过程设置有多道工序,且清洗槽内的水温、溶剂均有不同,硅片的清洁程度直接影响到硅片的最终质量及其使用寿命。
发明内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型提供一种智能控制、清洗效果好的硅片超声波清洗装置。
本实用新型是通过以下技术方案实现的:
一种硅片超声波清洗装置,包括清洗槽、热风机、组合控制器、加热器以及超声波发生器,所述清洗槽为U形槽罐,所述清洗槽左侧内壁上方安装有所述热风机,所述热风机下方安装有所述组合控制器,所述组合控制器从上至下分别包括水浸传感器和水温控制器,所述水浸传感器串联在所述水温控制器的串联电路上,所述水温控制器与所述加热器电性连接,所述加热器设置有两对,通过固定块分别安装在所述清洗槽的前后内壁上,所述固定块上方铺设有防护垫,所述固定块下方左右分别安装有所述超声波发生器,所述清洗槽底部左侧连接有进水管道,底部中心连接有排水管道。
所述热风机底部与所述清洗槽内壁之间安装有保护块。
所述清洗槽左右侧壁顶端分别竖直安装有挡水板。
所述进水管道和排水管道上分别安装有电子控制阀。
所述清洗槽外壁上安装有控制面板,所述控制面板包括水温数值显示屏及所述超声波发生器、电子控制阀的开关按钮。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:清洗槽采用U形槽罐,底部中心排水、排渣更顺畅,且方便清理;热风机能够快速辅助沥干吊篮内的硅片,并安装有挡水板,防止清洗剂相互污染;水浸传感器串联水温控制器,防止加热器在缺水情况下开启损坏,并有效控制水温,使清洗剂发挥更加优秀的功效;防护垫及保护块的设置能够有效保护热风机、加热器以及曹声波发生器,避免吊篮磕碰,使整体结构更加安全、耐用。
附图说明
图1是本实用新型的主视图。
附图中:1.清洗槽;2.热风机;3.组合控制器;4.加热器;5.超声波发生器;6.水浸传感器;7.水温控制器;8.固定块;9.防护垫;10.进水管道;11.排水管道;12.保护块;13.挡水板;14.控制面板。
具体实施方式
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