[实用新型]一种光学衰减片镀膜结构有效
申请号: | 201721751993.1 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN207976599U | 公开(公告)日: | 2018-10-16 |
发明(设计)人: | 欧杰辉 | 申请(专利权)人: | 深圳市飞莱特科技有限公司 |
主分类号: | G02B1/14 | 分类号: | G02B1/14 |
代理公司: | 深圳市中联专利代理有限公司 44274 | 代理人: | 李俊 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属铬层 二氧化硅层 光学衰减片 镀膜结构 氧化钽层 功能层 基材层 刮伤 本实用新型 | ||
本实用新型所涉及一种光学衰减片镀膜结构,其包括基材层,设置于基材层上面的功能层;所述功能层是由氧化钽层与金属铬层组成,所述氧化钽层位于下面,而金属铬层位于上面;所述的金属铬层上设置有二氧化硅层。该二氧化硅层能防止金属铬层表面成被氧化或被刮伤的现象发生,从而达到防止金属铬层被氧化或被刮伤的目的。
【技术领域】
本实用新型涉及一种用于光纤CATV领域方面的光学衰减片镀膜结构。
【背景技术】
光学衰减片顾名思义就是对于特定的光学信号经过光学元件之后会产生固定百分比的衰减(dB);需要经过光学元件后产生固定百分比衰减的效果。通常做到衰减效果的都会使用金属做吸收层达到衰减的效果。但由于金属暴露在大气中容易氧化,并且与外界接触等容易在表面造成划痕。
【实用新型内容】
有鉴于此,本实用新型所要解决的技术问题是提供一种能防止金属铬层被氧化机或被刮伤的光学衰减片镀膜结构。
为此解决上述技术问题,本实用新型中的技术方案所采用一种光学衰减片镀膜结构,其包括基材层,设置于基材层上面的功能层;所述功能层是由氧化钽与金属铬层组成,所述氧化钽层位于下面,而金属铬层位于上面;功能层利用金属铬对光信号的吸收实现对光信号的衰减;所述的金属铬层上设置有二氧化硅层。
依据上述主要技术特征所述,所述基材层是由BK7玻璃制成的
依据上述主要技术特征所述,所述金属铬层上面形成有用于防止金属铬层表面氧化,刮伤,污染的金属保护层。
依据上述主要技术特征所述,所述金属保护层是由二氧化硅材料制成二氧化硅层。
本实用新型的有益技术效果:因所述功能层是由氧化钽层与金属铬层组成,所述氧化钽层位于下面,而金属铬层位于上面;所述的金属铬层上设置有二氧化硅层。该二氧化硅层能防止金属铬层表面成被氧化或被刮伤的现象发生,从而达到防止金属铬层被氧化机或被刮伤的目的。。
下面结合附图和实施例,对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。
【附图说明】
图1为本实用新型中光学衰减片镀膜结构的示意图。
【具体实施方式】
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚、明白,以下结合附图和实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
请参考图1所示,下面结合实施例说明一种光学衰减片镀膜结构,其包括基材层1,设置于基材层1上面的氧化钽层3,设置于氧化钽层3上的金属铬层 2。金属铬层2上面设置有二氧化硅层4。
所述基材层1是由BK7玻璃制成的。所述金属铬层2上面设置有用于防止金属铬层2表面氧化,刮伤,污染的金属保护层。所述金属保护层是由二氧化硅材料制成二氧化硅层4。
在基材层1与金属铬层2之外增加一层二氧化硅材料后,可保护金属铬层 2防止氧化、刮伤、污染。通过美军标光通讯元件可靠性试验《美军标MIL-C-48497A》及高温85℃高湿85RH老化试验1000小时无脱落、老化,通过铅笔硬度测试无划痕。
综上所述,因所述功能层是由氧化钽层3与金属铬层2组成,所述氧化钽层3位于下面,而金属铬层2位于上面;所述的金属铬层2上设置有二氧化硅层4。该二氧化硅层4能防止金属铬层2表面成被氧化或被刮伤的现象发生,从而达到防止金属铬层2被氧化机或被刮伤的目的。
以上参照附图说明了本实用新型的优选实施例,并非因此局限本实用新型的权利范围。本领域技术人员不脱离本实用新型的范围和实质内所作的任何修改、等同替换和改进,均应在本实用新型的权利范围之内。
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