[实用新型]线性蒸发源及连续式蒸镀设备

说明书

本实用新型公开了一种线性蒸发源，包括：坩埚，用于对材料进行第一次蒸发；第一加热器，用于加热坩埚；喷射管，喷射管与坩埚连通，用于对材料进行第二次蒸发，喷射管包括管本体以及若干个喷嘴，若干个喷嘴沿管本体的长度方向排列于管本体上；第二加热器，用于对喷射管进行加热。本实用新型还公开一种连续式蒸镀设备，包括若干个相互连通的真空镀膜腔、传送机构和线性蒸发源，传送机构用于传输待蒸镀样品，线性蒸发源设置于真空镀膜腔内，喷嘴朝向待蒸镀样品。在线性蒸发源中通过两个加热器控制蒸发量和蒸发速率，设置若干个喷嘴实现大面积喷涂。在连续式蒸镀设备中设置传送机构使得多个待蒸镀样品在各个真空蒸镀腔内连续移动，实现连续蒸镀。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备领域，更具体地说，涉及一种线性蒸发源及连续式蒸镀设备。

背景技术

镀膜在现在生活中越来越常见，例如为了防止手机、平板电脑和智能手表等电子产品的触摸屏上留下指纹，需要在触摸屏上堵上一层具有疏油、疏水的防指纹膜。一般地，防指纹膜可以使用涂覆法或者真空蒸镀法进行制备。单体真空腔体蒸镀法是目前商业大规模应用的方案。在使用该蒸镀发是，待蒸镀成防指纹膜的高分子材料蒸发源被制备封装成小坩埚样式置于真空腔体中，通过电子束轰击加热蒸发源将高分子材料蒸发到玻璃或者其他基底上，可通过玻璃基底的旋转来提高均匀性。蒸发源一般为一次性耗材，蒸完后通过打开单体的真空腔体更换新一批材料来进行下一轮的蒸镀。

单体真空腔体蒸镀法的缺点是蒸发源原材料制备复杂，成本高；并且电子束蒸发对于大面积基底的均匀性控制能力有限；同时，单体式腔体需要不断升降温及开闭降低了生产效率，同时也增加了腔体污染的几率。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于克服现有技术的不足，提供一种蒸发量和蒸发速率可控且可实现大面积蒸镀的线性蒸发源。

为了实现上述的目的，本实用新型采用了如下的技术方案：

一种线性蒸发源，包括：

坩埚，用于容纳材料并对所述材料进行第一次蒸发；

第一加热器，用于加热所述坩埚；

喷射管，所述喷射管与所述坩埚连通，其用于对所述材料进行第二次蒸发，且所述喷射管包括管本体以及若干个喷嘴，所述若干个喷嘴沿所述管本体的长度方向排列于所述管本体上，所述喷嘴用于将经过第二次蒸发的所述材料喷出；

第二加热器，用于对所述喷射管进行加热。

优选地，所述坩埚包括坩埚本体和坩埚盖，所述坩埚本体的一端开设有敞口，所述坩埚盖盖设于所述敞口上，所述坩埚盖开设有通孔，所述管本体为一端封闭且另一端开口的圆柱体管道，所述管本体的开口与所述坩埚盖的通孔对接。

优选地，线性蒸发源还包括一端封闭且另一端开口的第一屏蔽罩，所述坩埚设置于所述第一屏蔽罩内，所述第一加热器设置于所述坩埚与所述第一屏蔽罩之间。

优选地，线性蒸发源还包括第二屏蔽罩，所述第二屏蔽罩的两端开口且沿长度方向上开设有第一长槽，所述管本体设置于所述第二屏蔽罩内，且所述喷嘴伸出于所述第一长槽外，所述第二加热器设置于所述第二屏蔽罩和所述管本体之间。

优选地，线性蒸发源还包括设置于所述第三屏蔽罩，所述第三屏蔽罩的两端开口且沿长度方向上开设有第二长槽，所述第三屏蔽罩套设于所述第二屏蔽罩外，所述喷嘴伸出于所述第二长槽之外。

优选地，所述第一加热器和/或所述第二加热器为电阻式加热器。

优选地，若干个所述喷嘴间隔设置且呈同一直线排列。

优选地，相邻两个所述喷嘴的间距为10mm至100mm。