[实用新型]一种真空镀膜设备

说明书

本实用新型提供了一种真空镀膜设备，包括腔体，所述腔体包括有若干个首尾相连的镀膜空间，每个所述镀膜空间中均设置有靶材、敲击探头、基板以及第一抽真空组件，位于相邻两个所述镀膜空间之间均设置有过渡空间，过渡空间的容积小于任一镀膜空间的容积，所述过渡空间的两侧均设置有过渡墙，所述过渡墙上均设置有过渡阀，所述过渡空间通过所述过渡阀可选择与位于该过渡空间两侧的镀膜空间连通或隔绝，每个所述过渡空间中均设置有第二抽真空组件。本实用新型提供的一种真空镀膜设备能够提高制造效率。

技术领域

本实用新型属于镀膜设备领域，涉及一种真空镀膜设备。

背景技术

真空镀膜法是一种在触控面板、太阳能电池等等的光电产业、半导体产业常见的镀膜技术，已知真空镀膜法包含物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)等方式。以薄膜太阳能电池制程为例，需要利用真空镀膜方式于一基板镀上透明导电薄膜电极、光电转换层等膜层，又或者，例如铜铟镓薄膜太阳能电池制作时，则需要先于基板镀上铜薄膜、铟薄膜后再进行硒化处理。因此，现有的一种真空镀膜设备，是在一腔体内设有数个腔室，每个腔室可进行不同材料薄膜的镀膜制程，且相邻腔室间设有阀门，通过阀门启闭来控制腔室间的连通与否。故进行太阳能电池的镀膜制程时，主要是先使基板于第一个腔室内镀上第一种材料的薄膜，接着打开第一个腔室与第二个腔室间的阀门，使该基板输送到第二个腔室镀上第二种材料的薄膜，后续依此类推，打开下一阀门，并将基板输送到下一腔室镀膜。

但因为控制阀门开启与关闭，会耗费一定的时间。而且当阀门开启后，相邻两腔室就会互相连通，上一腔室中的工作气体会流到下一腔室内，进而影响下一腔室内的真空度，且任一腔室要进行镀膜时，都必须先将腔室内抽到一定的真空度后再通入工作气体，因此每当基板送入下一腔室后，为了维持下一腔室的真空度，又必需重新抽真空而耗费时间，如此导致制程麻烦、时间长，制造效率低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜设备，旨在解决制造效率低的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种真空镀膜设备，包括腔体，所述腔体包括有若干个首尾相连的镀膜空间，每个所述镀膜空间中均设置有靶材、敲击探头、基板以及第一抽真空组件，位于相邻两个所述镀膜空间之间均设置有过渡空间，过渡空间的容积小于任一镀膜空间的容积，所述过渡空间的两侧均设置有过渡墙，所述过渡墙上均设置有过渡阀，所述过渡空间通过所述过渡阀可选择与位于该过渡空间两侧的镀膜空间连通或隔绝，每个所述过渡空间中均设置有第二抽真空组件。

本实用新型进一步设置为，所述过渡空间中设置有第一加热结构，用于对过渡空间内部进行加热。

本实用新型进一步设置为，所述过渡空间中设置有减容体，用于减小可流进到过渡空间中气体的体积。

本实用新型进一步设置为，还包括有准备腔室以及准备墙体，所述准备墙体上设置有准备阀，所述准备腔室位于腔体的端部，用于对待加工的基片进行预处理，所述准备腔室通过准备阀与镀膜空间连通或隔绝，所述准备腔室中设置有第三抽真空组件。

本实用新型进一步设置为，所述准备腔室中还设置有第二加热结构，用于对位于准备腔室中的基片进行加热。

本实用新型进一步设置为，所述镀膜空间中还设置有连接体以及驱动体，所述驱动体与连接体连接并用于驱动连接体活动，所述靶材与连接体连接，所述连接体用于带动靶材活动并使得敲击探头可作用于靶材的不同部位。

本实用新型进一步设置为，所述靶材与连接体均为圆环形结构，所述驱动体驱动连接体以及靶材做圆环形转动，所述敲击探头可作用于靶材的圆环形结构上。

本实用新型进一步设置为，还包括有设置于所述连接体上的冷却水管，用于通入冷却水对连接体进行降温，所述冷却水管为圆环形结构，且冷却水管贴合于连接体的侧部。

本实用新型进一步设置为，所述冷却水的流动方向与连接体的转动方向相反。