[实用新型]一种真空镀膜设备

权利要求书

1.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括腔体(1)，所述腔体(1)包括有若干个首尾相连的镀膜空间(2)，每个所述镀膜空间(2)中均设置有靶材(3)、敲击探头(4)、基板(5)以及第一抽真空组件(6)，位于相邻两个所述镀膜空间(2)之间均设置有过渡空间(7)，过渡空间(7)的容积小于任一镀膜空间(2)的容积，所述过渡空间(7)的两侧均设置有过渡墙(8)，所述过渡墙(8)上均设置有过渡阀(9)，所述过渡空间(7)通过所述过渡阀(9)可选择与位于该过渡空间(7)两侧的镀膜空间(2)连通或隔绝，每个所述过渡空间(7)中均设置有第二抽真空组件(10)。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述过渡空间(7)中设置有第一加热结构，用于对过渡空间(7)内部进行加热。

3.根据权利要求1或2所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述过渡空间(7)中设置有减容体(11)，用于减小可流进到过渡空间(7)中气体的体积。

4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，还包括有准备腔室(12)以及准备墙体(13)，所述准备墙体(13)上设置有准备阀(14)，所述准备腔室(12)位于腔体(1)的端部，用于对待加工的基片进行预处理，所述准备腔室(12)通过准备阀(14)与镀膜空间(2)连通或隔绝，所述准备腔室(12)中设置有第三抽真空组件(15)。

5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述准备腔室(12)中还设置有第二加热结构，用于对位于准备腔室(12)中的基片进行加热。

6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述镀膜空间(2)中还设置有连接体(16)以及驱动体(17)，所述驱动体(17)与连接体(16)连接并用于驱动连接体(16)活动，所述靶材(3)与连接体(16)连接，所述连接体(16)用于带动靶材(3)活动并使得敲击探头(4)可作用于靶材(3)的不同部位。

7.根据权利要求6所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述靶材(3)与连接体(16)均为圆环形结构，所述驱动体(17)驱动连接体(16)以及靶材(3)做圆环形转动，所述敲击探头(4)可作用于靶材(3)的圆环形结构上。

8.根据权利要求7所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，还包括有设置于所述连接体(16)上的冷却水管(18)，用于通入冷却水对连接体(16)进行降温，所述冷却水管(18)为圆环形结构，且冷却水管(18)贴合于连接体(16)的侧部。

9.根据权利要求8所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述冷却水的流动方向与连接体(16)的转动方向相反。

10.根据权利要求6所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述靶材(3)以及连接体(16)均为长条形结构，所述驱动体(17)驱动所述连接体(16)与靶材(3)做直线往复运动，所述敲击探头(4)可作用于靶材(3)的长条形结构上。