[实用新型]一种等离子表面处理装置有效
| 申请号： | 201721569796.8 | 申请日： | 2017-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN207460574U | 公开（公告）日： | 2018-06-05 |
| 发明（设计）人： | 蔡卫;罗弦;黄明柱;何鹏 | 申请（专利权）人： | 深圳市诚峰智造有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/26 | 分类号： | H05H1/26 |
| 代理公司： | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人： | 张明 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 容置腔 喷嘴 等离子表面处理装置 通槽 等离子发生器 条形缝隙 柱形通孔 外槽口 套管 本实用新型 待处理产品 电极设置 封闭区域 生产需求 电极 大工件 内槽口 腔口处 连通 平行 垂直 贯穿 | ||
1.一种等离子表面处理装置，其特征在于，包括等离子发生器套管、电极和喷嘴，所述等离子发生器套管内包括容置腔，所述电极设置于所述容置腔内；所述喷嘴设置于所述容置腔的腔口处；所述喷嘴上设置有连通容置腔与外界的通槽，所述通槽包括朝向容置腔的内槽口和朝向外界的外槽口，所述外槽口包括相连通的条形缝隙和柱形通孔，条形缝隙与柱形通孔相平行且均沿垂直于通槽深度的方向贯穿喷嘴。
2.如权利要求1所述的等离子表面处理装置，其特征在于，所述条形缝隙位于所述喷嘴的最外侧，所述柱形通孔设置于所述条形缝隙的内侧。
3.如权利要求1所述的等离子表面处理装置，其特征在于，所述柱形通孔为圆柱形。
4.如权利要求1所述的等离子表面处理装置，其特征在于，所述柱形通孔的内径大于所述条形缝隙的宽度。
5.如权利要求1所述的等离子表面处理装置，其特征在于，还包括喷嘴保护套，所述喷嘴保护套的顶端套设于所述容置腔的腔口内；所述喷嘴套设于所述喷嘴保护套内。
6.如权利要求5所述的等离子表面处理装置，其特征在于，还包括喷嘴紧压指环，所述喷嘴保护套的顶端包括两层台阶面，所述容置腔的腔口设置有止挡部，所述喷嘴紧压指环夹设于上层台阶面与所述止挡部之间，所述喷嘴设置于所述下层台阶面与喷嘴紧压指环之间。
7.如权利要求5所述的等离子表面处理装置，其特征在于，所述喷嘴保护套与所述等离子发生器套管通过螺丝连接。
8.如权利要求1所述的等离子表面处理装置，其特征在于，所述内槽口的面积大于所述外槽口的面积。
9.如权利要求1所述的等离子表面处理装置，其特征在于，还包括旋转驱动装置，所述旋转驱动装置连接于所述喷嘴。
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