[实用新型]一种纳米级轻质碳酸钙制备时多功能处理装置有效

专利信息
申请号: 201721499847.4 申请日: 2017-11-13
公开(公告)号: CN207429940U 公开(公告)日: 2018-06-01
发明(设计)人: 张小龙;翁继华;张磊;毛丽飞 申请(专利权)人: 德兴市良诚钙业有限公司
主分类号: B01D47/06 分类号: B01D47/06;B01D53/78;B01D53/50
代理公司: 南昌赣专知识产权代理有限公司 36129 代理人: 张文宣;刘锦霞
地址: 334200 *** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 制备 多功能处理装置 轻质碳酸钙 纳米级 烟气 本实用新型 感应控制器 回流开关 降温装置 生产标准 除尘罐 回流管 控制阀 排气管 脱硫塔 脱水仓 碳酸钙 开关关闭 控制排气 排气开关 外部连接 标准时 检测 灵活 环节 发现 生产
【说明书】:

实用新型公开了一种纳米级轻质碳酸钙制备时多功能处理装置,属于碳酸钙制备领域,一种纳米级轻质碳酸钙制备时多功能处理装置包括除尘罐、脱硫塔、脱水仓和降温装置,所述除尘罐、所述脱硫塔、脱水仓和降温装置内部皆设置有感应控制器,外部连接有排气管和回流管,排气管和回流管上分别设置有排气开关控制阀和回流开关控制阀,当检测到烟气不符合生产标准时,感应控制器控制排气开关关闭,回流开关开启。本实用新型发现不符合生产标准的烟气时可以明确地了解到哪个环节出了问题,同时可立即反应,对不符合生产标准的烟气进行再次的处理,整个工序反应灵活,处理高效。

技术领域

本实用新型涉及碳酸钙制备领域,特别是涉及一种纳米级轻质碳酸钙制备时多功能处理装置。

背景技术

目前,在生产纳米碳酸钙时,会产生大量含有三氧化硫及粉尘等的烟气,如这些烟气不经过除尘脱硫等工艺处理或除尘脱硫等效果不理想,直接进入到碳化工序进行生产,会对碳化工艺造成非常严重的影响,造成纳米钛酸钙的品质低下或严重时令碳酸钙不能形成纳米级,无法产生纳米碳酸钙产品。在现有技术中,对这些烟气采用的处理方式较为单一,且对处理后烟气的检测方式不够全面,反应过程不够灵活,效率过低。

实用新型内容

为了克服上述现有技术的不足,本实用新型提供了一种纳米级轻质碳酸钙制备时多功能处理装置,能够全面地监测烟气的是否符合纳米碳酸钙的生产要求,发现不符合烟气时可立即反应,对不符合烟气进行再次的处理,整个工序反应灵活,处理高效。

本实用新型所采用的技术方案是:

一种纳米级轻质碳酸钙制备时多功能处理装置,包括除尘罐,脱硫塔,脱水仓,降温装置,其特征在于:所述除尘罐一端连接有烟气排出的出气管,所述除尘罐另一边管道连接有灰尘监测装置,所述灰尘监测装置内部设置有第一感应控制器,所述灰尘监测装置连接有第一回流管和第一排气管,所述第一回流管和所述第一排气管分别设置有第一回流开关控制阀和第一排气开关控制阀,所述第一感应控制器同时与所述第一排气开关控制阀、所述第一回流开关控制阀相连,所述第一回流管另一端与所述除尘罐连接,所述第一排气管另一端连接有所述脱硫塔,所述脱硫塔另一边管道连接有硫量监测装置,所述硫量监测装置设置有第二感应控制器,所述硫量监测装置连接有第二回流管和第二排气管,所述第二回流管和所述第二排气管分别设置有第二回流开关控制阀和第二排气开关控制阀,所述第二感应控制器|同时与所述第二排气开关控制阀、所述第二回流开关控制阀相连,所述第二回流管另一端与所述脱硫塔连接,所述第二排气管另一端连接有所述脱水仓,所述脱水仓另一边管道连接有水分监测装置,所述水分监测装置设置有第三反应控制器,所述水分监测装置连接有第三回流管和第三排气管,所述第三回流管和所述第三排气管分别设置有第三回流开关控制阀和第三排气开关控制阀,所述第三反应控制器同时与所述第三回流开关控制阀、第三排气开关控制阀连接,所述第三回流管另一端与所述脱水仓连接,所述第三排气管另一端连接有所述降温装置,所述降温装置另一边管道连接有温度监测装置,所述温度监测装置内连接设置有第四感应控制器,所述温度监测装置连接有第四回流管和第四排气管,所述第四回流管和所述第四排气管分别设置有第四回流开关控制阀和第四排气开关控制阀,所述第四感应控制器同时与所述第四回流开关控制阀、所述第四排气开关控制阀连接,所述第四回流管另一端与所述降温装置连接,所述第四排气管另一端连接有碳化室。

作为本方案的进一步改进,所述第一感应控制器,第二感应控制器,第三感应控制器,第四感应控制器分别连接有第一警示灯,第二警示灯,第三警示灯和第四警示灯。

作为本方案的进一步改进,在所述第一排气管、所述第二排气管、所述第三排气管和所述第四排气管上皆设置有负压风机。

作为本方案的进一步改进,所述除尘罐底部设置有石膏液,所述除尘罐设置有喷雾枪,所述喷雾枪位于所述石膏液上方,所述除尘罐与所述灰尘监测装置连接的管道接口位置高于所述石膏液液面。

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