[实用新型]抛光机清洗及供料系统有效
申请号: | 201721445075.6 | 申请日: | 2017-11-02 |
公开(公告)号: | CN207593450U | 公开(公告)日: | 2018-07-10 |
发明(设计)人: | 葛旭瑞 | 申请(专利权)人: | 北京陆星科技有限公司 |
主分类号: | B24B13/00 | 分类号: | B24B13/00;B24B13/005;B24B57/02 |
代理公司: | 北京易正达专利代理有限公司 11518 | 代理人: | 程宝妹 |
地址: | 101105 北京市通州区中关村科技园区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 环形槽 注水盘 压盘 供料管道 抛光剂 注水管道 抛光机 通孔 供料系统 上通孔 抛光 镜片 清洗 光洁度 本实用新型 管道连通 抛光过程 驱动装置 悬挂设置 后表面 上表面 均布 正对 注料 转动 驱动 出口 保证 | ||
本实用新型公开了一种抛光机清洗及供料系统,包括注水管道、供料管道和注水盘,在注水盘上表面具有环形槽,所述注水管道和供料管道悬挂设置于注水盘的上方,注水管道和供料管道的出口正对环形槽,注水盘设置在抛光机压盘的上方,在环形槽底开有多个通孔,通孔沿环形槽均匀分布,压盘对应开有相同数量的通孔,环形槽上通孔与压盘上通孔之间通过管道连通。本系统在抛光过程中,供料管道将抛光剂注入至注水盘的环形槽内。注料过程中,注水盘随压盘在驱动装置的驱动下同时旋转,抛光剂均布在环形槽内,保证进入到抛光区内的抛光剂随着压盘的转动分布更均匀,避免因抛光剂分布不均导致镜片抛光后表面光洁度不同,镜片一致性差。
技术领域
本实用新型涉及一种抛光设备,尤其涉及一种应用于抛光机的清洗及供料系统。
背景技术
在现有技术中,抛光机也称为研磨机,常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作原理是:电动机带动安装在抛光机上的抛光盘高速旋转,由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦,进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。抛光盘的转速一般在60r/min以内,多为无级变速,施工时可根据需要随时调整。然而现有的抛光机只能对工件进行单面抛光,一面抛光完毕后需要停止抛光机将工件翻面继续抛光。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种双面抛光机上应用的清洗及供料系统。
本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的:
一种抛光机清洗及供料系统,包括注水管道、供料管道和注水盘,在注水盘上表面具有环形槽,所述注水管道和供料管道悬挂设置于注水盘的上方,注水管道和供料管道的出口正对环形槽,注水盘设置在抛光机压盘的上方,在环形槽底开有多个通孔,通孔沿环形槽均匀分布,压盘对应开有相同数量的通孔,环形槽上通孔与压盘上通孔之间通过管道连通。
优选地,所述注水管道和供料管道上均设置有阀门。
优选地,所述环形槽沿注水盘上表面的边缘设置。
优选地,在所述环形槽的槽底开有6个通孔。
优选地,所述注水盘通过多根连杆支撑在压盘的上方,多根连杆成环形均匀分布。
与现有技术相比,本实用新型实施例至少具有以下优点:
本抛光机清洗及供料系统在抛光过程中,供料管道将料桶内的抛光剂持续不断的注入至注水盘的环形槽内。注料过程中,注水盘随压盘在驱动装置的驱动下同时旋转,抛光剂随之均布在环形槽内。环形槽内的抛光剂通过其环形槽底部的多个通孔进入到压盘下方的抛光区内辅助抛光。以此方式注入抛光剂可以保证进入到抛光区内的抛光剂随着压盘的转动分布更均匀,避免抛光剂仅从环形槽底的某一或某些通孔排下导致抛光剂在与镜片接触时分布不均匀导致镜片抛光后表面光洁度不同,镜片一致性差。
附图说明
图1为本实用新型抛光机清洗及供料系统应用于双面抛光机时的结构示意图;
图2为本实用新型抛光机清洗及供料系统的双面抛光机的下模的结构示意图;
图3为本实用新型抛光机清洗及供料系统的双面抛光机的卡块与驱动块之间的配合示意图。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此,以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围,而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
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