[实用新型]硅片自动清洗脱胶一体机

说明书

本实用新型公开了一种能够实现硅片清洗和脱胶一次完成的硅片自动清洗脱胶一体机。该硅片自动清洗脱胶一体机，包括水洗清洗装置、脱胶装置、硅片水平输送装置；所述水洗清洗装置以及脱胶装置并排设置；水洗清洗装置以及脱胶装置均包括高压泵、至少两个支撑座，所述支撑座并排均匀分布；支撑座下方具有硅片运输区间；所述支撑座下方的硅片运输区间内设置有硅片水平输送装置以及硅片输送滑道；所述支撑座上设置有两端密闭的高压管道；所述高压管道与高压泵连通；所述高压管道上设置有喷头；所述脱胶装置还包括脱胶液加热装置；所述脱胶液加热装置与脱胶装置的高压泵连通。采用该硅片自动清洗脱胶一体机能够减少工序，提高工作效率，降低生产成本。

技术领域

本实用新型涉硅片的清洗，尤其是一种硅片自动清洗脱胶一体机。

背景技术

众所周知的：硅片表面的洁净度是影响硅片合格率和电池转换效率的关键因素。为获得洁净度高的硅片，往往硅片在经过线切割后需经过脱胶清洗和精细清洗两个部分，而作为第一道清洗工序的脱胶清洗虽然没有切割工艺要求那么高，但也是获得洁净片的重要工序，其清洗过程涉及到物理、化学、超声等多种学科。

现有技术中实现硅片的脱胶清洗往往采用两个工序即首先通过清洗装置对硅片的表面通过水洗，洗掉硅片表面的部分金属粉末、硅粉、碳化硅等；然后再通过脱胶装置实现对硅片的脱胶。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种能够实现硅片清洗和脱胶一次完成的硅片自动清洗脱胶一体机。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：硅片自动清洗脱胶一体机，包括水洗清洗装置、脱胶装置、硅片水平输送装置；所述水洗清洗装置以及脱胶装置并排设置；

所述水洗清洗装置以及脱胶装置均包括高压泵、至少两个支撑座，所述支撑座并排均匀分布；所述支撑座下方具有硅片运输区间；所述支撑座下方的硅片运输区间内设置有硅片水平输送装置以及硅片输送滑道；

所述支撑座上设置有两端密闭的高压管道；所述高压管道沿硅片水平输送装置输送硅片的方向延伸；且位于硅片水平输送装置的上方；

所述高压管道上设置有入水口，所述入水口与高压泵连通；所述高压管道上设置有沿高压管道长度方向均匀分布的喷头；所述喷头位于硅片水平输送装置的正上方；

所述脱胶装置还包括脱胶液加热装置；所述脱胶液加热装置与脱胶装置的高压泵连通。

进一步的，所述硅片水平输送装置包括至少两根皮带；所述皮带两端均设置有传动轴；所述传动轴上设置有至少两个皮带轮，所述皮带轮与皮带一一对应；所述皮带与皮带轮传动连接；所述传动轴两端设置有轴承座；两根传动轴中任意一根的轴承座上设置有驱动传动轴转动的驱动电机。

进一步的，所述支撑座下方的硅片运输区间内设置有中间横梁；所述中间横梁位于皮带下方，所述中间横梁上设置有高压管道，所述高压管道上设置有沿高压管道长度方向均匀分布的喷头，且该喷头位于皮带的正下方。

进一步的，所述硅片水平输送装置下方设置有废水收集盒。

进一步的，所述滑道上设置有沿滑道长度方向延伸的硅片导向槽。

本实用新型的有益效果是：本实用新型所述的硅片自动清洗脱胶一体机由于设置有水洗清洗装置、脱胶装置，并且在水洗清洗装置、脱胶装置下方设置有硅片水平输送装置；因此在硅谷进行水平输送的过程中通过水洗清洗装置、实现对硅片的清洗，通过脱胶装置实现对硅片的脱胶，从而使得本实用新型所述的硅片自动清洗脱胶一体机能够实现对硅片的清洗和脱胶一次性完成；减少了工序，提高了工作效率，降低了生产成本。

附图说明

图1为本实用新型实施例中硅片自动清洗脱胶一体机的立体图；

图2为本实用新型实施例中硅片自动清洗脱胶一体机的俯视图；