[实用新型]一种磁控溅射镀膜机的旋转靶

说明书

技术领域

本实用新型属于玻璃镀膜设备技术领域，涉及一种磁控溅射镀膜机的旋转靶。

背景技术

真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜，近十年来发展相当快，已经成为当今最先进的表面处理方式之一。真空镀膜生产是实现膜层附着在工件表面，以获得需要的工件表面特性。真空溅射镀膜是利用靶材发生溅射，使溅射物附着在工件表面形成膜层，即达到镀膜，磁控溅射镀膜机是常见的真空溅射镀膜设备，然而，由于其上设置的磁控溅射靶中，靶材和靶芯相对不动，而靶芯上的磁块分布难于相对均匀，且难以保证不同磁块的磁性一致，使得生产中磁场强度有差异，溅射不均匀，影响镀膜质量，因而优待改进。由于磁控溅射过程中会产生高温，而现有技术没能有效给予降温，导致磁控效果降低，不利于生产。

现有技术中的旋转靶冷却效果较差，且用于冷却的冷却管使用寿命较短，强度较低，由于其更换不便，导致其使用成本较高，更换周期短。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种磁控溅射镀膜机的旋转靶，本实用新型所要解决的技术问题是如何延长冷却管的使用寿命，且优化冷却效果。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：一种磁控溅射镀膜机的旋转靶，其特征在于，本旋转靶包括靶芯、冷却管、驱动装置、磁块和靶材，所述冷却管位于所述靶芯内，所述靶芯的一端通过若干个支撑套与靶材固定相连，所述靶芯的另一端与靶材之间具有一容纳腔，所述磁块位于所述容纳腔内，且磁块包裹在靶芯上，所述冷却管具有进水端和出水端，所述冷却管的内壁上具有螺旋状的导槽。

冷却管内壁上设置的螺旋状的导槽，能够使冷却水形成涡流经过，从而增强冷却效果，而且，由于冷却管内壁设置的导槽，冷却管的强度得到加强，使用寿命延长，大大降低了使用成本。

在上述的一种磁控溅射镀膜机的旋转靶中，所述驱动装置包括固定设置在靶材上的锥齿轮一、锥齿轮二和驱动齿轮，所述锥齿轮一和锥齿轮二对称设置，且齿牙相向设置，所述驱动齿轮上具有能够分别与锥齿轮一和锥齿轮二啮合的两个倾斜设置的齿圈。

为了防止冷却管内壁设置的导槽对旋转靶旋转平稳性的影响，驱动装置采用锥齿轮一和锥齿轮二正对设置的方式，然后通过驱动齿轮与之配合，达到提高旋转平稳性，增强啮合传动的强度等效果。

在上述的一种磁控溅射镀膜机的旋转靶中，所述磁控固定在一轴套上，所述轴套与靶芯固定相连，所述轴套的两端分别具有一个屏蔽挡圈。

屏蔽挡圈能够在一定程度上防止磁块的干扰。

与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：

1、冷却管内壁上设置的螺旋状的导槽，能够使冷却水形成涡流经过，从而增强冷却效果，而且，由于冷却管内壁设置的导槽，冷却管的强度得到加强，使用寿命延长，大大降低了使用成本。

2、为了防止冷却管内壁设置的导槽对旋转靶旋转平稳性的影响，驱动装置采用锥齿轮一和锥齿轮二正对设置的方式，然后通过驱动齿轮与之配合，达到提高旋转平稳性，增强啮合传动的强度等效果。

附图说明

图1是本旋转靶的截面图。

图中，1、靶芯；2、冷却管；21、进水端；22、出水端；23、导槽；3、驱动装置；31、锥齿轮一；32、锥齿轮二；33、驱动齿轮；4、磁块；5、靶材；61、支撑套；62、容纳腔；71、轴套；72、屏蔽挡圈。

具体实施方式

以下是本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步的描述，但本实用新型并不限于这些实施例。

如图1所示，本旋转靶包括靶芯1、冷却管2、驱动装置3、磁块4和靶材5，冷却管2位于靶芯1内，靶芯1的一端通过若干个支撑套61与靶材5固定相连，靶芯1的另一端与靶材5之间具有一容纳腔62，磁块4位于容纳腔62内，且磁块4包裹在靶芯1上，冷却管2具有进水端21和出水端22，冷却管2的内壁上具有螺旋状的导槽23；冷却管2内壁上设置的螺旋状的导槽23，能够使冷却水形成涡流经过，从而增强冷却效果，而且，由于冷却管2内壁设置的导槽23，冷却管2的强度得到加强，使用寿命延长，大大降低了使用成本。

驱动装置3包括固定设置在靶材5上的锥齿轮一31、锥齿轮二32和驱动齿轮33，锥齿轮一31和锥齿轮二32对称设置，且齿牙相向设置，驱动齿轮33上具有能够分别与锥齿轮一31和锥齿轮二32啮合的两个倾斜设置的齿圈；为了防止冷却管2内壁设置的导槽23对旋转靶旋转平稳性的影响，驱动装置3采用锥齿轮一31和锥齿轮二32正对设置的方式，然后通过驱动齿轮33与之配合，达到提高旋转平稳性，增强啮合传动的强度等效果。