[实用新型]一种低反射低辐射率单银镀膜玻璃

说明书

本实用新型涉及无损检测技术领域，具体涉及一种低反射低辐射率单银镀膜玻璃，包括玻璃基体和镀设于所述玻璃基体表面的复合膜层，其特征在于：所述复合膜层由TiOx层、吸收层、第一SiNx层、ZnOx层、第一NiCr层、Ag层、第二NiCr层和第二SiNx层自所述玻璃基体表面向外依次层叠而成，所述吸收层为第三NiCr层，所述第三NiCr层的厚度为0.5‑20nm，采用上述方案后，本实用新型的单银镀膜玻璃能够兼具较低的反射率和较低的遮阳系数，从而满足产品使用需求。

技术领域

本实用新型涉及无损检测技术领域，具体涉及一种低反射低辐射率单银镀膜玻璃。

背景技术

现有单银镀膜玻璃产品，膜层结构通常为玻璃基体/氮化硅(氧化锡)/氧化锌/第一镍铬/银/第二镍铬/氮化硅，为降低城市光污染，降低玻璃产品的反射率，通常会选择减少银层、第一镍铬层或第二镍铬层的厚度，但是进行上述调整后，在降低产品反射率的同时，会使得产品的透过率增高、遮阳系数增大，选择系数降低，从而导致部分产品无法满足幕墙的技术要求。

发明内容

本实用新型提供一种低反射低辐射率单银镀膜玻璃，在不减薄原有膜层结构中银层或镍铬层厚度的情况下，仍然能满足反射率偏低的需求，由于银层和镍铬层厚度不变，因而遮阳系数较低，仍能满足产品节能需求。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种低反射低辐射率单银镀膜玻璃，包括玻璃基体和镀设于所述玻璃基体表面的复合膜层，所述复合膜层由TiOx层、吸收层、第一SiNx层、ZnOx层、第一NiCr层、Ag层、第二NiCr层和第二SiNx层自所述玻璃基体表面向外依次层叠而成，所述吸收层为第三NiCr层，所述第三NiCr层的厚度为0.5-20nm。

进一步的，所述TiOx层的厚度为1-40nm；所述第一SiNx层的厚度为1-50nm；所述ZnOx层的厚度为1-50nm；所述第一NiCr层的厚度为0.5-20nm；所述Ag层的厚度为1-20nm；所述第二NiCr层的厚度为0.5-20nm；所述第二SiNx层的厚度为1-50nm。

进一步的，所述TiOx层的厚度为5-28nm；所述第三NiCr层的厚度为3-12nm；所述第一SiNx层的厚度为8-36nm；所述ZnOx层的厚度为5-40nm；所述第一NiCr层的厚度为3-12nm；所述Ag层的厚度为3-15nm；所述第二NiCr层的厚度为3-12nm；所述第二SiNx层的厚度为10-40nm。

进一步的，所述TiOx的厚度为8-25nm；所述第三NiCr层的厚度为3.6-6.2nm；所述第一SiNx层的厚度为12-16nm；所述ZnOx层的厚度为10-17nm；所述第一NiCr层的厚度为1.5-3.2nm；所述Ag层的厚度为5.6-7.3nm；所述第二NiCr层的厚度为3.2-4.5nm；所述第二SiNx层的厚度为29-35nm。