[实用新型]晶体硅承载结构及晶体硅截断机有效

专利信息
申请号: 201721196000.9 申请日: 2017-09-15
公开(公告)号: CN207327330U 公开(公告)日: 2018-05-08
发明(设计)人: 卢建伟;李鑫 申请(专利权)人: 上海日进机床有限公司
主分类号: B28D5/04 分类号: B28D5/04;B28D7/00;B28D7/04
代理公司: 上海巅石知识产权代理事务所(普通合伙) 31309 代理人: 张明;王再朝
地址: 201601 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶体 承载 结构 截断
【说明书】:

本申请公开一种晶体硅承载结构及晶体硅截断机。该晶体硅承载结构包括:底座;设于所述底座上的承载台,所述承载台包括第一承载台和第二承载台;以及承载台移动机构,配置于所述第一承载台和/或所述第二承载台上,用于驱动所述第一承载台和/或所述第二承载台移动以调整所述第一承载台和所述第二承载台的相对位置。本申请的晶体硅承载结构能够通过第一承载台和第二承载台的相对移动来调整两者间的相对位置,从而能实现对不同长度及具有不同切割位置的多晶硅棒的承载,以利于后续对承载的多晶硅棒进行头尾截断作业。

技术领域

本申请涉及线切割技术领域,特别是涉及一种晶体硅承载结构及晶体硅截断机。

背景技术

线切割技术是目前较先进的加工技术,原理是通过高速运动的切割线对待加工工件进行摩擦,从而达到切割的目的。在对工件的切割过程中,金刚线通过导线轮的引导,在主线辊上形成一张线网,而待加工工件通过工作台的上升下降或者金刚线的上升下降实现工件的进给,在压力泵的作用下,装配在设备上的冷却水自动喷洒装置将冷却水喷洒至金刚线和工件的切削部位,由金刚线往复运动产生切削以进行切割。线切割技术与传统的刀锯片、砂轮片及内圆切割相比具有效率高、产能高、精度高等优点。

在现有线切割技术中,是将待加工工件置于设有与切割位置对应的切割槽的承载台上,由切割单元对承载台上承载的晶体硅进行切割。在实际应用中,以晶体硅截断为例,由于需要对晶体硅进行截断作业以截断其不符合生产工艺要求的头部和尾部,因此根据承载台上切割槽的分布情况,切割单元可以分别切割晶体硅头部和尾部的杂质层,也可以同时切割晶体硅头部和尾部的杂质层。但是当切割单元同时切割晶体硅头部和尾部的杂质层时,由于切割槽的位置使得切割单元只能切割固定的头尾尺寸,使得待加工工件的尺寸受到限制。

发明内容

鉴于以上所述的现有技术的缺点,本申请的目的在于提供一种晶体硅承载结构及晶体硅截断机,用于解决现有技术中由于承载台结构的限制只能承载固定尺寸待加工工件的问题。

为实现上述目的及其他目的,本申请的第一方面提供一种晶体硅承载结构,包括:底座;设于所述底座上的承载台,所述承载台包括第一承载台和第二承载台;以及承载台移动机构,配置于所述第一承载台和/或所述第二承载台上,用于驱动所述第一承载台和/或所述第二承载台移动以调整所述第一承载台和所述第二承载台的相对位置。

在本申请的第一方面的某些实施方式中,所述第一承载台上设有供与承载的晶体硅的第一切割位置对应的第一切割槽;以及所述第一承载台与所述第二承载台之间的空隙与承载的晶体硅的第二切割位置对应,或者,所述第二承载台上设有供与承载的晶体硅的第二切割位置对应的第二切割槽。

在本申请的第一方面的某些实施方式中,所述第一承载台与所述第二承载台之间的空隙与承载的晶体硅的第一切割位置对应,或者,所述第一承载台上设有供与承载的晶体硅的第一切割位置对应的第一切割槽;以及所述第二承载台上设有供与承载的晶体硅的第二切割位置对应的第二切割槽。

在本申请的第一方面的某些实施方式中,所述承载台移动机构包括:滑轨,设于所述底座上;滑块,滑设于所述滑轨上;以及驱动源,向所述滑块提供滑动于所述滑轨的驱动力。

本申请的第二方面还提供一种晶体硅截断机,其特征在于,包括:至少一工位平台,所述工位平台上设有供承载待切割晶体硅的晶体硅承载结构;所述晶体硅承载结构包括底座和承载台,所述承载台包括第一承载台和与所述第一承载台相对移动的第二承载台;线切割装置,包括切割支架和设于所述切割支架上且与所述晶体硅承载结构对应的线切割结构;所述线切割结构包括第一线切割单元和与所述第一线切割单元相对移动的第二线切割单元。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海日进机床有限公司,未经上海日进机床有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721196000.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top