[实用新型]一种高粘结力双稳态液晶手写膜

说明书

【技术领域】

本实用新型涉及一种高粘结力双稳态液晶手写膜。

【背景技术】

目前使用的液晶手写膜，其是两层带导电层的基材中间灌有在外场(如光、热等)下可聚合的混配单体或预聚物、液晶及相关的液晶组合物(手性掺杂剂/旋光剂)，该液晶组合物主要用于调节胆甾相液晶的螺距以达到调节其布拉格反射的效果。通常在混合物的清亮点以上的温度下施加外场，使聚合物与液晶相分离便可制得聚合物分散液晶手写膜。

将手写膜接入刷新电路刷新后，胆甾相液晶处于稳态1，给手写膜施加压力时，胆甾相液晶将翻转到稳态2。稳态1与稳态2具有不同的反射波长，具有显示轨迹的效果。通过控制添加液晶组合物的种类、比例及驱动方式可以达到不同的效果(主要为白底黑字与黑底白字的区别)。

其中，基材1为透明光学薄膜，基材2可以为透明光学薄膜(此基材上亦可以添加透明/不透明的有色涂层或薄膜)或不透明薄膜。

缺陷及不足：现有的结构存在粘结力较差。由于液晶比例较高，常规用于PDLC调光膜的单体或预聚物混配物已无法保证手写膜的开膜稳定性。无论是聚合物与导电层之间，还是聚合物层间的作用力都大幅度降低，这不仅会降低生产过程中的成品率，还增大了下游买家在使用过程中损坏的风险。

【实用新型内容】

本实用新型所要解决的技术实际问题提供一种粘结力好、双稳态的液晶手写膜。

针对上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种高粘结力双稳态液晶手写膜，其特征在于从上到下依次包括上基层1、上导电层2、上二氧化硅层3、聚合物液晶层4、下二氧化硅层5、下导电层6和下基层7。

如上所述的高粘结力双稳态液晶手写膜，其特征在于所述上二氧化硅层3、下二氧化硅层5的厚度为2-20nm。

如上所述的高粘结力双稳态液晶手写膜，其特征在于所述上基层1、下基层7均为PET基层；所述上导电层2、下导电层6均为ITO导电层， ITO导电层的方阻为80-500Ω·cm。

本实用新型的有益效果有:

(1)SiO2层拥有较ITO等导电层更高的与聚合物间的作用力，同时于胶水中添加可参与聚合的表面改性剂和交联剂，手写膜的粘接力可以有很大程度提高。

(2)因为其层极薄，不影响导电膜正常的导电性；

(3)用于调光膜或手写膜类性产品时还可以降低由层间导电杂质引起的击穿率；

(4)SiO2层拥有较高的硬度，减少了导电膜在收放卷过程中因摩擦等而引起的划伤问题。

【附图说明】

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

如图所示，一种高粘结力双稳态液晶手写膜，从上到下依次包括上基层1、上导电层2、上二氧化硅层3、聚合物液晶层4、下二氧化硅层5、下导电层6和下基层7。其中，上二氧化硅层3、下二氧化硅层5的厚度可采用2-20nm范围内的厚度。在本案中，所述上基层1、下基层7均为 PET基层。所述上导电层2、下导电层6均为ITO导电层，ITO导电层的方阻为80-500Ω·cm。本案中的上基层或下基层，其中一层设置为透明，作为手写层，另一层可为不透明或半透明。

本案在导电层上添加较薄一层二氧化硅(SiO₂)，由于SiO2与聚合物液晶层间的作用力较强，以此提高双稳态液晶手写膜产品中聚合物液晶层与基材/导电层的粘结力，解决现有产品普遍粘结力较差、成品率低、客户退货量大的问题。有效的降低了生产成本，提高利润空间。

本案的制造工艺：实施例1

步骤1于选型好的用于手写膜的PET基材上磁控溅射上ITO导电层，方阻为100Ω/cm；

步骤2于ITO层上，采用磁控溅射的方法加镀一层SiO2，层厚为10nm；

步骤3配制胶水液晶混合物；

步骤4用卷对卷连续贴合式设备制作手写膜；

步骤5制作样品测试其性能：手写性能无变化，粘接力提升较多。

本案的制造工艺：实施例2

步骤1于选型好的用于手写膜的PET基材上磁控溅射上ITO导电层，方阻为500Ω/cm；

步骤2于ITO层上，采用磁控溅射的方法加镀一层SiO2，层厚为15nm；

步骤3配制胶水液晶混合物；

步骤4用卷对卷连续贴合式设备制作手写膜；

步骤5制作样品测试其性能：手写性能无变化，粘接力提升较多。