[实用新型]自平衡装置

权利要求书

1.一种自平衡装置，用于自动调整搅拌装置运行中的平衡，所述搅拌装置设置有一个或两个以上搅拌组件，其特征在于，包括平衡支架、滑动机构、移位中轴、装设于移动中轴顶端的移位元件以及与移位中轴连接的移位驱动装置，所述平衡支架与各个搅拌组件连接，所述平衡支架滑动地设于滑动机构上，所述平衡支架具有与移位元件相接的位移定位元件，所述移位驱动装置驱动移位中轴沿着轴向移动并带动移位元件沿着轴向移动，所述位移定位元件在移位元件作用下使平衡支架沿着滑动机构滑动，以调整搅拌装置转动重心。

2.如权利要求1所述的自平衡装置，其特征在于，所述移位元件的相对两侧分别有斜面，两个斜面相互平行并相对于移位中轴的轴线倾斜，所述位移定位元件包括两个位移定位元件，两个所述位移定位元件各具有与所述移位元件的斜面相对应的斜面部。

3.如权利要求2所述的自平衡装置，其特征在于，所述平衡支架包括第一平衡架和第二平衡架，所述第一平衡架包括第一平衡梁和设于第一平衡梁两端的第一平衡对称元件，所述第二平衡架包括第二平衡梁和设于第二平衡梁两端的第二平衡对称元件，两个所述位移定位元件分别设于第一平衡梁和第二平衡梁，所述移位元件各斜面与两个所述位移定位元件的斜面部进行间隙接合，并在移位中轴移动时作用于两个所述位移定位元件。

4.如权利要求3所述的自平衡装置，其特征在于，所述滑动机构包括多个滑块和多个滑轨，每个滑块对应滑动地设于一个所述滑轨上，每个平衡梁两端分别设有一个所述滑块并与滑块一同移动。

5.如权利要求3所述的自平衡装置，其特征在于，所述第一平衡梁和第二平衡梁上分别设有一个凸起的定位块，每个所述斜面部为定位块挖设的一个斜面，每个所述定位块与斜面相对的一侧挖设有另一个斜面。

6.如权利要求1所述的自平衡装置，其特征在于，所述移位元件底部镂空有一个轴承腔，所述轴承腔内装有一个套设于移位中轴顶端的顶部轴承，所述顶部轴承上方设有一个顶部平面轴承，所述移位元件通过轴承与移位中轴顶端相接，使得在移位中轴旋转时，移位元件仅是上下移动。

7.如权利要求1所述的自平衡装置，其特征在于，所述移位驱动装置包括步进电机、主动同步带轮和从动同步带轮，所述主动同步带轮和从动同步带轮通过同步皮带连接，所述移位中轴沿着轴向嵌有一个平键，所述从动同步带轮通过所述平键与移位中轴以间隙方式连接，在步进电机驱动下，所述移位中轴随着从动同步带轮一起转动并沿着轴向进行移动。

8.如权利要求7所述的自平衡装置，其特征在于，所述自平衡装置还包括一个螺母座，所述螺母座具有腔室，所述螺母座的腔室内装有上平面轴承和下平面轴承，所述从动同步带轮位于上平面轴承和下平面轴承之间，通过上平面轴承和下平面轴承来保持从动同步带轮处于上下不可移动的位置，所述螺母座具有中轴安装板，所述中轴安装板开设有内螺纹孔，所述移位中轴对应于中轴安装板的位置设有与所述内螺纹孔配合的外螺纹。

9.如权利要求1所述的自平衡装置，其特征在于，所述移位中轴底端具有感应针，所述自平衡装置在对应于移位中轴底端的位置设有光电开关，所述感应针随着移位中轴的轴向移动具有工作位置和复位原点位置，工作位置高于复位原点位置，所述光电开关位置对应于复位原点位置。

10.如权利要求1所述的自平衡装置，其特征在于，所述搅拌装置包括转盘，所述搅拌组件为对称地设置于转盘上的两个以上搅拌组件，每个所述搅拌组件包括一个搅拌腔，每个搅拌腔上装有一个搅拌杯，每个所述搅拌杯在外壁上设有凸圈，所述凸圈对称地挖有多个定位缺口，所述搅拌腔的腔口边沿设有与多个定位缺口对应卡嵌的多个凸块，所述转盘绕一个转轴旋转，所述移位中轴和所述转轴共轴线设置。