[实用新型]一种用于检测缸体止推面半圆深度的检测工具

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种检测工具，特别涉及一种用于检测缸体止推面半圆深度的检测工具。

背景技术

止推面半圆深度是指缸体止推面半圆最底端到瓦盖结合面的距离。以往检具设计时均考虑以瓦盖结合面为测量的定位基准，使用辅助测量块或者止推面半圆仿形结构来测量到止推面半圆最低点的距离。因该处的尺寸公差控制在0.1mm，参考检具的设计标准，该公差要求的尺寸一般使用带表类检具来进行测量。综合考虑，该处以往的设计经验，大都是使用带表类专用检具，以瓦盖结合面为定位基准，通过辅助测量块或仿形结构测量止推面半圆最低点的位置，对比该位置检具读数与检具测量标准件读数之间的差值求出该最低点的尺寸。用于对止推面半圆深度测量的工具目前有两种：

如图1所示，第一种检测工具1a包括检具本体2a和辅助测量块3a。测量步骤如下：(1)将检具本体2a放在标准件上进行校准；(2)将辅助测量块3a放进缸体曲轴孔中；(3)检具本体2a跨坐在瓦盖结合面上，本体上的测头与辅助测量块3a接触，读数。因该检具是借助辅助测量块3a找到止推面最低端位置，并测量辅助测量块3a上高点的位置，通过辅助测量块3a上高点和低点之间的位置关系，来间接测量止推面的深度。这种结构就存在以下两个问题：(1)该测量是间接测量，通过辅助测量块3a转换时存在误差；(2)当曲轴孔直径加工到公差下限时，存在辅助测量块3a最低点不能测到止推面最低点的风险。

如图2所示，第二种检测工具1b包括检具本体2b和仿形结构3b。测量步骤如下：(1)将检具本体2b放在标准件上进行校准；(2)检具本体2b跨坐在瓦盖结合面上，仿形结构3b与止推面最低点接触，读数。因仿形结构3b需要根据止推面半圆相对瓦盖结合面的位置上下移动，故该仿形结构3b无法固定，造成测量时重复性较差。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题为如何快速直观地判断出被测缸体止推面半圆深度是否小于其所允许的设计最小深度。

针对上述技术问题，本实用新型提出了一种用于检测缸体止推面半圆深度的检测工具，其包括：基座，所述基座设置有底面、与底面平行的顶面以及延伸方向垂直于所述底面的通孔，测量件，所述测量件包括与所述通孔间隙配合的直杆以及设置在直杆伸出所述底面的第一端上的且板面垂直于所述底面的的半圆片，其中，当所述直杆的第二端的端面与所述顶面平齐时所述半圆片的顶端到所述底面的距离等于缸体止推面半圆的设计最小深度。

在一个具体的实施例中，所述第二端上还设置有凸台，所述凸台的顶部与所述顶面平齐时所述半圆片的顶端到所述底面的距离等于缸体止推面半圆的设计最大深度。

在一个具体的实施例中，所述凸台设置在直杆的一侧。

在一个具体的实施例中，所述通孔为圆孔，所述第二端构造为圆柱状，所述凸台构造为半径与所述第二端相等的半圆形凸台。

在一个具体的实施例中，半圆片的圆弧端面上形成倒角。

在一个具体的实施例中，所述第一端上还设置有构造为半圆形的板状结构且平行于所述半圆片的固定片，所述固定片的半径小于所述半圆片的半径。

在一个具体的实施例中，所述固定片的顶端不超过所述半圆片的顶端。

在一个具体的实施例中，所述直杆的侧壁上设置有轴向延伸且两端封闭的条槽，所述检测工具还包括固定在所述基座上且伸入到所述条槽内的销钉。

在一个具体的实施例中，所述直杆与所述半圆片螺栓连接。

在一个具体的实施例中，所述基座构造为六面体结构。

在对缸体止推面半圆深度进行检测时，将基座跨座在跨坐在瓦盖结合面上，基座的底面与瓦盖结合面相抵接，测量件的半圆片容纳于缸体止推面半圆内。半圆片与缸体止推面半圆在同一个平面内。将测量件下推，半圆片的圆环端面与缸体止推面半圆的弧面相互挤压的过程中半圆片的顶端最终将与缸体止推面半圆的最底端相抵。此时，只需观察直杆的第二端的端面与基座顶面的位置关系，若第二端的端面高于基座的顶面则缸体止推面半圆深度小于其所允许的设计最小深度，反之，若第二端的端面的陷入到通孔内则缸体止推面半圆深度大于其所允许的设计最小深度。这样就能快速直观地判断出被测缸体止推面半圆深度是否小于其所允许的设计最小深度。

附图说明

在下文中将基于实施例并参考附图来对本实用新型进行更详细的描述。其中：

图1为现有技术中的第一种测量工具的结构示意图；

图2为现有技术中的第二种测量工具的结构示意图；

图3为本实用新型的一个实施例中的测量工具的主视示意图；