[实用新型]喷嘴自清洁及防护系统

说明书

技术领域

本公开一般涉及半导体制造领域，尤其涉及喷嘴自清洁及防护系统。

背景技术

喷雾喷嘴是一种较常见的药液吐出装置，广泛应用于化学品作业领域。但喷雾作业方式易产生大量雾状挥发物，会导致作业环境的沾污，经过一定时间溶剂挥发后又会形成结晶物并产生粉尘，周而复始导致作业环境恶化。喷雾喷嘴在工业领域尤其半导体制造工艺中使用非常广泛，如图1所示，喷雾喷嘴1应用在半导体制造领域中进行光刻胶显影工艺，设备显影单元5中安装有作业腔4，作业腔4内放置有真空吸盘3，真空吸盘3上吸附放置晶圆2，喷雾喷嘴1对晶圆进行喷雾作业，由于药液的喷溅及挥发，作业腔4使用一段时间后会产生明显的污渍，显影作业单元5中也会出现污渍，使得作业环境恶化，影响后续工艺的效果。

实用新型内容

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种喷嘴自清洁及防护系统。

一方面，提供一种喷嘴自清洁及防护系统，包括设备显影单元，所述设备显影单元内设有作业腔，所述作业腔旁安装有导轨，所述导轨上安装有机械臂，所述机械臂一端安装有喷嘴，所述喷嘴上安装有防护罩，所述设备显影单元内还设有清洗基座，所述清洗基座上设有多个用于喷出清洗液或者空气的喷头。

根据本申请实施例提供的技术方案，通过在喷嘴上设置防护罩有效避免喷雾喷嘴在使用过程中对作业环境的沾污，并且能过对防护罩进行清洁，结构简单，成本低，效率高。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为现有技术中喷雾喷嘴在光刻胶显影作业时示意图；

图2为本实用新型中喷嘴自清洁及防护系统结构示意图；

图3-图6为本实用新型中喷嘴自清洁及防护系统使用过程示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关实用新型，而非对该实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与实用新型相关的部分。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。

请参考图2和图3，本实用新型提供一种喷嘴自清洁及防护系统，包括设备显影单元5，所述设备显影单元5内设有作业腔4，所述作业腔4旁安装有导轨6，所述导轨6上安装有机械臂7，所述机械臂7一端安装有喷嘴B，所述喷嘴B上安装有防护罩A，所述设备显影单元内还设有清洗基座C，所述清洗基座C上设有多个用于喷出清洗液或者空气的喷头。

本实用新型中的系统通过在喷嘴上安装防护罩，使其在进行喷雾工作时将雾状挥发物遮挡掉，避免其挥发至周围的工作环境中造成污染，同时还设置清洗基座对防护罩进行清洁，其结构简单，防护效果好。

进一步的，所述防护罩A设有开口，所述开口内有内腔，所述喷嘴B出口具体设置在所述防护罩A内腔内，所述防护罩A开口方向与所述喷嘴B方向一致。防护罩的开口方向和喷嘴方向一致，喷嘴向下进行喷淋作业，防护罩安装在喷嘴上用来阻挡散出的溶剂。

进一步的，所述清洗基座C上设有多组喷头，每组喷头包括间隔设置的清洗液喷头D和气浴喷头E，每组喷头沿所述清洗基座C轴线方向排列。沿清洗基座的轴线方向安装多组喷头进行清洗工作，在清洗基座上的喷头有不同的功能，分别喷清洗液和气进行清洗和吹干，清洗基座可以进行旋转和升降保证防护罩的清洗效果。

在清洗基座上安装了喷头用来对防护罩进行清洗，喷头设置的结构与防护罩结构相同，安装在清洗基座上的喷头能够全方位的对防护罩的内腔进行清洗，喷气和喷清洗液的距离相同且均匀，清洗更加方便。

进一步的，每组所述喷头之间间隔角度相同。多组喷头均与间隔设置，喷头喷出的清洗液和气可以均匀覆盖防护罩，使得对防护罩的清洗比较全面。

进一步的，所述清洗基座内设有喷液管路和喷气管路，所述喷液管路与所述清洗液喷头相连通，所述喷气管路与所述气浴喷头相连通。清洗基座内通过设置两种不同的管路实现清洗液和气的输送，两个管路互不干扰进行工作。