[实用新型]一种凹槽及具有该凹槽真空吸附装置有效
| 申请号： | 201720839175.0 | 申请日： | 2017-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN207900718U | 公开（公告）日： | 2018-09-25 |
| 发明（设计）人： | 蔡庭外 | 申请（专利权）人： | 欧木工业自动化设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B23Q3/08 | 分类号： | B23Q3/08 |
| 代理公司： | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人： | 赵朋晓 |
| 地址： | 201601 上海市松*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空吸附装置 吸附平台 密封件 本实用新型 抽真空孔 槽口 复数 环绕 阻挡 表面分割 交叉设置 内部区域 内密封件 有效解决 真空腔室 纵向开设 内侧壁 凸出的 底面 联通 吸附 向内 支撑 外部 | ||
1.一种凹槽，用于真空吸附装置，其特征在于，所述凹槽(2)的内侧壁设有向内凸出的阻挡部(7)，所述凹槽(2)的槽口宽度大于所述凹槽(2)的槽底宽度。
2.如权利要求1所述的一种凹槽，其特征在于，所述凹槽(2)包括凹槽上部(9)与凹槽下部(8)，所述阻挡部(7)设于所述凹槽上部(9)与所述凹槽下部(8)之间，所述阻挡部(7)沿所述凹槽的长度方向对称设置。
3.如权利要求2所述的一种凹槽，其特征在于，所述凹槽(2)的槽口与槽底宽度之比为5比4，所述凹槽下部(8)的深度为凹槽(2)总深度的三分之二。
4.如权利要求1所述的一种凹槽，其特征在于，所述凹槽(2)的底部于两侧设有倒角，所述阻挡部(7)的边缘为光滑的弧形面。
5.一种真空吸附装置，其特征在于，包括如权利要求1-4任一项所述凹槽、吸附平台及密封件，所述吸附平台(1)沿横向、纵向开设有复数个所述凹槽(2)，所述凹槽(2)相互交叉设置，将吸所述吸附平台(1)的表面分割为多个支撑块(3)，所述吸附平台(1)的底面设有抽真空孔(5)，所述抽真空孔(5)联通所述凹槽(2)，所述密封件(4)环绕嵌置于复数个所述支撑块(3)外部的凹槽(2)内，所述密封件(4)环绕的内部区域形成真空腔室。
6.如权利要求5所述的一种真空吸附装置，其特征在于：所述凹槽(2)包括凹槽上部(9)与凹槽下部(8)，所述阻挡部(7)设于所述凹槽上部(9)与所述凹槽下部(8)之间，所述凹槽上部(9)与所述支撑块(3)之间的连接面为倾斜面。
7.如权利要求6所述的一种真空吸附装置，其特征在于：所述倾斜面与支撑块(3)上表面之间的夹角小于40度。
8.如权利要求5所述的一种真空吸附装置，其特征在于：所述阻挡部(7)与所述支撑块(3)为一体成型式设计。
9.如权利要求5所述的一种真空吸附装置，其特征在于：所述密封件(4)为密封条，所述密封条的截面形状为矩形，所述矩形的上部向上设有圆弧状凸起。
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