[实用新型]一种极化电场调控二维半导体能带结构有效

专利信息
申请号: 201720838135.4 申请日: 2017-07-12
公开(公告)号: CN207009481U 公开(公告)日: 2018-02-13
发明(设计)人: 王建禄;王旭东;沈宏;林铁;孟祥建;褚君浩 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: H01L51/42 分类号: H01L51/42;H01L51/48
代理公司: 上海沪慧律师事务所31311 代理人: 李秀兰
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 极化 电场 调控 二维 半导体 能带 结构
【权利要求书】:

1.一种极化电场调控二维半导体能带结构,其特征在于,

所述的二维半导体能带结构是将极化材料与二维半导体直接接触,由极化材料极化后所产生的极化电场来调控二维半导体的能带结构;

所需的器件结构自下而上依次为:绝缘衬底(1)、二维半导体(2)、金属引出复合电极(3)、极化材料(4)、金属上电极(5);其中:

所述的绝缘衬底(1)为二氧化硅或石英或蓝宝石;

所述的二维半导体(2)材料,厚度为2层至5层分子层;

所述的金属引出复合电极(3)为铬和金(Cr/Au)或钛和金(Ti/Au)或钯和金(Pd/Au)的复合电极,下层金属铬或钛或钯厚度为厚度5-10纳米,上层金属金厚度为30-50纳米,且该金属引出复合电极与所述的二维半导体(2)具有良好的欧姆接触;

所述的极化材料(4)为聚偏氟乙烯基铁电聚合物,厚度为50-300纳米;所述的金属上电极(5)为金属铝,厚度为8-10纳米。

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