[实用新型]一种用于浸没式膜的可拼接集气大孔曝气装置有效

专利信息
申请号: 201720801762.0 申请日: 2017-07-04
公开(公告)号: CN206915840U 公开(公告)日: 2018-01-23
发明(设计)人: 洪建春;詹子婷 申请(专利权)人: 联合环境技术(厦门)有限公司
主分类号: C02F3/12 分类号: C02F3/12
代理公司: 北京天江律师事务所11537 代理人: 朱红来
地址: 361006 福建省厦门市中国(福建)自由贸*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 浸没 拼接 集气大孔曝气 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种曝气装置,尤其涉及一种用于浸没式膜的可拼接集气大孔曝气装置,属于膜技术领域。

背景技术

浸没式膜(SMF)过滤工艺是超低压中空纤维膜技术与连续膜过滤技术相结合而派生出来的一种新型的膜过滤处理工艺。它使用开放式中空纤维膜组件,将膜直接置于充满待处理水的膜池之中,通过泵的负压抽吸和大气压力,使水透过膜表面,从中空纤维膜内侧抽出,达到过滤净化的目的。SMF在运行过程中,由于活性污泥等微生物的附着、污水中的微粒、胶体粒子或溶质大分子与膜存在物理化学相互作用或机械作用等,会引起膜表面或膜孔内吸附、沉积,最终造成膜孔径变小或堵塞,从而造成膜污染,影响处理效率。为了避免上述情况的发生,好氧池中必须安装曝气装置,以使池内液体与空气接触溶氧,从而对堵塞的污泥清洗冲刷的作用。但传统的微孔曝气装置由于产生的气泡太小,其冲刷力也较小,导致膜清洗效果较差。

实用新型内容

为了解决上述技术所存在的不足之处,本实用新型提供了一种用于浸没式膜的可拼接集气大孔曝气装置。

为了解决以上技术问题,本实用新型采用的技术方案是:一种用于浸没式膜的可拼接集气大孔曝气装置,包括集气槽,它还包括限位出水机构、大孔曝气管;大孔曝气管设置于集气槽的内部中间;集气槽的三面内壁上均设置有对接凹槽,限位出水机构的三面外壁上均对应设置有对接凸条;每对对接凸条、对接凹槽均通过定位螺丝紧固连接;

集气槽相对的两面外壁上均设置有叠加凹槽或叠加凸条;相邻的集气槽通过不同的叠加凹槽或叠加凸条进行叠加相连。

大孔曝气管的内径与限位出水机构的出水孔内径之比为3~15:1。

大孔曝气管的内径为12~60mm;限位出水机构的出水孔内径为3~20mm。

对接凸条用来紧固定位螺丝的一侧为橡胶材质。

本实用新型可将SMF中为增加溶解氧的微孔曝气的未溶解的气体收集起来,当达到一定量时再从大孔曝气管迅速以大气泡方式冒出,从而能更好地冲走SMF膜丝上的污染物,具有冲刷力较强的优点;此外,可充分利用增氧曝气的气量来冲走SMF膜丝上的污染物,减少了总曝气量,具有结构简单、操作成本低、实用性强的优点。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图一。

图2为本实用新型的整体结构示意图二。

图3为图1的部分分解结构示意图。

图4为限位出水机构的整体结构示意图。

图中:1、集气槽;2、限位出水机构;3、叠加凹槽;4、叠加凸条;5、对接凹槽;6、对接凸条;7、大孔曝气管;8、定位螺丝。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

如图1~4所示,本实用新型包括集气槽1,它还包括限位出水机构2、大孔曝气管7;大孔曝气管7设置于集气槽1的内部中间;集气槽1的三面内壁上均设置有对接凹槽5,限位出水机构2的三面外壁上均对应设置有对接凸条6;每对对接凸条6、对接凹槽5均通过定位螺丝8紧固连接;限位出水机构2通过对接凸条6、对接凹槽5与集气槽1相连。

集气槽1相对的两面外壁上均设置有叠加凹槽3或叠加凸条4;相邻的集气槽1中一个设置有叠加凹槽3,另一个设置有叠加凸条4,通过叠加凹槽3和叠加凸条4的匹配相连使得多个集气槽1相互拼接在一起。

大孔曝气管7的内径与限位出水机构2的出水孔内径之比为3~15:1。大孔曝气管7的内径为12~60mm;限位出水机构2的出水孔内径为3~20mm。

对接凸条6用来紧固定位螺丝8的一侧为橡胶材质,便于通过调整定位螺丝8的拧紧松紧度,在一定程度上调节限位出水机构2的位置,从而在一定范围内调节集气槽1的储气量,以期达到最适合的集气量时再从大孔曝气管7中迅速冒出,从而能更好地冲走SMF膜丝上的污染物。

本实用新型中的集气槽用于收集SMF中为增加溶解氧的微孔曝气的未溶解的气体,当气体达到一定量时再从大孔曝气管以大气泡迅速冒出,产生足够大的冲刷力,从而能更好地冲走SMF膜丝上的污染物使过滤液体在中空膜内的流动时很容易形成湍流,因此基本不会在中空膜内形成粘合污染,大大提高了膜的使用效率;拼接式设计进一步提高了本产品的现场适应能力,可根据实际需要对本产品进行组装。

上述实施方式并非是对本实用新型的限制,本实用新型也并不仅限于上述举例,本技术领域的技术人员在本实用新型的技术方案范围内所做出的变化、改型、添加或替换,也均属于本实用新型的保护范围。

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